[发明专利]具有用于存储流体的腔室的微流体装置

权利要求书

1. 微流体装置（5、35、55、75），其具有用于存储液体的腔室（1、31、51、71），其特征在于，所述腔室（1、31、51、71）在内壁（6、36、56、76）上至少部分地具有疏水的或者超疏水的表面（2、32、52、72）。

2. 按照权利要求1所述的微流体装置（5、53、55、75），其特征在于，在运行状态中如此定位所述腔室（1、31、51、71），从而通入到所述腔室（1、31、51、75）中的通道（12、15、42、45、65、85）的至少一个通入口（21、48、58、78）沿作用到液体上的重力和/或离心力的方向（9）对准。

3. 按照权利要求2所述的微流体装置（5、35、55、75），其特征在于，所述通入口（21、48、58、78）布置在漏斗形或者设计成半球形的内壁（6、36、56、76）上。

4. 按照权利要求2至3中任一项所述的微流体装置（5、35、55），其特征在于，所述微流体装置（5、35、55）具有第一层（10、40、60）和第二层（11、41、61），其中，至少一个层（10、40、60）是结构化的；并且如此地连接所述层（10、40、60、11、41、61），从而在它们之间构造所述通道（12、15、42、45、62、65）。

5. 按照前述权利要求中任一项所述的微流体装置（5、35、55），其特征在于，所述腔室（1、31、51）具有至少一个用于压力平衡、施加过压或者引入液体的开口（4、34、54）。

6. 按照前述权利要求中任一项所述的微流体装置（5、35、55、75），其特征在于，所述超疏水表面（2、32、52、72）具有最高10度的接触角度滞后。

7. 按照前述权利要求中任一项所述的微流体装置（5、35、55、75），其特征在于，所述表面（2、32、52、72）的超疏水特性是通过给该表面（2、32、52、72）涂覆的疏水微粒；通过给表面（2、32、52、72）涂覆的疏水聚合层；通过电纺疏水纤维；通过引入微结构化的、疏水化的薄硅片；通过Sol-Gel工序和/或借助等离子体的腐蚀而产生的。

8. 充满和排空腔室（1、31、51、71）的方法，所述腔室在内壁（6、36、56、76）上至少部分地具有疏水的表面（2、32、52、72），所述方法具有下述步骤：

a）所述腔室（1、31、51、71）在重力和/或离心力（9）的场中对准；

b）通过进入通道（12、42、62、82）为所述腔室（1、31、51、71）充满液体；

c）将液体存储在所述腔室（1、31、51、71）中；并且

d）通过排出通道（15、45、65、85）排空所述腔室（1、31、51、71）。

9. 按照权利要求8所述的方法，其特征在于，在排空之前为所述腔室（1、31、51、71）充满另一种液体，并且将另外的液体与第一液体混合。