[发明专利]晶圆清洗设备

权利要求书

1.一种晶圆清洗设备，其特征在于，包括：

机架；

晶圆清洗装置，所述晶圆清洗装置设在所述机架上，所述晶圆清洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体、设在所述第二容纳腔内的第二晶圆支撑机构和设在所述第二本体上的晶圆清洗机构，所述第二容纳腔的底壁上设有沿上下方向贯通所述第二容纳腔的底壁的第二槽口用于通过晶圆；

晶圆刷洗装置，所述晶圆刷洗装置设在所述机架上且位于所述晶圆清洗装置的下游侧，所述晶圆刷洗装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在所述第三容纳腔内的第三晶圆支撑机构和晶圆刷洗机构，所述第三容纳腔的底壁上设有沿上下方向贯通所述第三容纳腔的底壁的第三槽口用于通过晶圆；

晶圆干燥装置，所述晶圆干燥装置设在所述机架上且位于所述晶圆刷洗装置的下游侧，所述晶圆干燥装置包括具有第四容纳腔的第四本体以及设在所述第四容纳腔内的第四晶圆支撑机构和晶圆干燥机构，所述第四容纳腔的底壁上设有沿上下方向贯通所述第四容纳腔的底壁的第四槽口用于通过晶圆；和

机械手，所述机械手可移动地设在所述机架上用于竖直地夹持晶圆和搬运晶圆。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第二至第四晶圆支撑机构中的每一个包括：

第一和第二上驱动轮；

电机，所述电机与所述第一和第二上驱动轮相连用于驱动所述第一和第二上驱动轮旋转；

第一下支撑轮，所述第一下支撑轮与所述第一和第二上驱动轮协作支撑所述晶圆且将所述晶圆沿竖直方向定向；和

第一下支撑轮驱动件，所述第一下支撑轮驱动件与所述第一下支撑轮相连以便驱动所述第一下支撑轮上下移动和左右移动。

3.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述晶圆清洗机构包括：

第一和第二兆声喷头，所述第一和第二兆声喷头在所述晶圆的轴向上间隔开地设置以便分别用于清洗所述晶圆的两个表面；以及

兆声喷头驱动件，所述兆声喷头驱动件设在所述第二本体上且与所述第一和第二兆声喷头相连以便驱动所述第一和第二兆声喷头沿所述晶圆的径向平移。

4.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述晶圆刷洗机构包括第一和第二毛刷，所述第一和第二毛刷相对地且间隔开地设置以便分别用于刷洗所述晶圆的两个表面。

5.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述晶圆干燥机构包括第一和第二喷嘴，所述第一和第二喷嘴在所述晶圆的轴向上间隔开地设置以便分别用于向所述晶圆的两个表面喷射氮气。

6.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述晶圆刷洗装置为两个，一个所述晶圆刷洗装置位于所述晶圆清洗装置的下游侧，另一个所述晶圆刷洗装置位于一个所述晶圆刷洗装置的下游侧且位于所述晶圆干燥装置的上游侧。

7.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，还包括晶圆进入过渡平台，所述晶圆进入过渡平台设在所述机架上且位于所述晶圆清洗装置的上游侧，所述晶圆进入过渡平台包括具有第一容纳腔的第一本体和设在所述第一容纳腔内的第一晶圆支撑机构，所述第一容纳腔的底壁上设有沿上下方向贯通所述第一容纳腔的底壁的第一槽口用于通过晶圆。

8.根据权利要求7所述的晶圆清洗设备，其特征在于，还包括晶圆移出过渡平台，所述晶圆移出过渡平台设在所述机架上且位于所述晶圆干燥装置的下游侧，所述晶圆移出过渡平台包括具有第五容纳腔的第五本体和设在所述第五容纳腔内的第五晶圆支撑机构，所述第五容纳腔的底壁上设有沿上下方向贯通所述第五容纳腔的底壁的第五槽口用于通过晶圆。

9.根据权利要求8所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第一晶圆支撑机构和所述第五晶圆支撑机构中的每一个包括：

第一和第二上支撑轮；

第二下支撑轮，所述第二下支撑轮与所述第一和第二上支撑轮协作支撑所述晶圆且将所述晶圆沿竖直方向定向；和

第二下支撑轮驱动件，所述第二下支撑轮驱动件与所述第二下支撑轮相连以便驱动所述第二下支撑轮上下移动和左右移动。

10.根据权利要求8所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述机械手具有多个用于竖直地夹持晶圆的手臂，其中所述第一至第五晶圆支撑机构的支撑平面和多个所述手臂的夹持平面彼此平行，相邻的所述支撑平面间隔第一预定距离且相邻的所述夹持平面间隔所述第一预定距离，所述第一至第五晶圆支撑机构的支撑平面的圆心位于同一直线上且多个所述手臂的夹持平面的圆心位于同一直线上。