[发明专利]制备亚微米级绒面结构单晶硅片的织构液及其制备方法

权利要求书

1.一种制备亚微米级绒面结构单晶硅片的织构液，其特征在于，它主要由无机碱、低级醇、阴离子或非离子型表面活性剂和去离子水等组成；其中，所述无机碱、低级醇、阴离子或非离子型表面活性剂和去离子水的重量配比为：1-5:2-10:0.1-1:100。

2.根据权利要求1所述的织构液，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾。

3.根据权利要求1所述的织构液，其特征在于，所述低级醇为乙醇、异丙醇或正丁醇。

4.根据权利要求1所述的织构液，其特征在于，所述阴离子型表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠或十二烷基硫酸钠；所述非离子型表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚或辛基酚聚氧乙烯醚。

5.一种权利要求1所述织构液的制备方法，如下：首先将去离子水加入制绒槽中，在搅拌的条件下依次加入无机碱，低级醇，阴离子或非离子型表面活性剂，无机碱、低级醇、阴离子或非离子型表面活性剂和去离子水的重量配比为：1-5:2-10:0.1-1:100，继续搅拌10~30分钟，使其充分溶解、混合，得到制备亚微米级绒面结构单晶硅片的织构液。