[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201210262807.3 | 申请日: | 2012-07-26 |
公开(公告)号: | CN102799033A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 林鸿涛;封宾;刘家荣 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗建民;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,包括阵列基板与彩膜基板,所述阵列基板包括多根数据线,所述彩膜基板包括公共电极,其特征在于,所述阵列基板还包括屏蔽电极,其设置在所述多根数据线上方,且所述屏蔽电极与公共电极之间形成电场以使得所述屏蔽电极对应的显示面板的区域不透光。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括绝缘层,所述绝缘层设置在所述屏蔽电极与多根数据线之间,以使得所述屏蔽电极与多根数据线互不导通。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,
所述显示面板采用常白模式的显示面板,所述屏蔽电极相对公共电极处于低电位以使得屏蔽电极与公共电极之间形成强电场;
或者,所述显示面板采用常黑模式的显示面板,所述屏蔽电极与公共电极的电位相等或相差不大以使得屏蔽电极与公共电极之间无电场或形成弱电场。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板采用常白模式的显示面板,所述屏蔽电极采用多个,所述阵列基板还包括多根栅线,所述多根栅线与所述多根数据线交叉设置,每个屏蔽电极均设置在相邻两根栅线之间的数据线上方,且与所述相邻两根栅线中的任一相连。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板采用常黑模式的显示面板,所述阵列基板还包括多根栅线及多根公共电极线,所述多根栅线与所述多根数据线交叉设置,所述多根公共电极线分别与所述公共电极相连,且每根公共电极线均与一根栅线平行设置;
所述屏蔽电极采用一个,该屏蔽电极与多根公共电极线中的任一相连;
或者,所述屏蔽电极采用多个,每个屏蔽电极均设置在相邻两根栅线之间的数据线上方,且与相邻的一根公共电极线相连;
或者,所述屏蔽电极采用多个,每个屏蔽电极均设置在一根数据线的上方,且与多根公共电极线中的任一相连。
6.一种显示装置,包括显示面板,其特征在于,所述显示面板采用权利要求1-5中任一所述的显示面板。
7.一种显示面板的制作方法,包括制作阵列基板与彩膜基板的步骤,所述制作阵列基板的步骤中包括制作多根数据线的图形的步骤,所述制作彩膜基板的步骤中包括制作公共电极的图形的步骤,其特征在于,所述制作阵列基板的步骤中还包括制作屏蔽电极的图形的步骤,并使屏蔽电极位于所述多根数据线上方,且能与公共电极之间形成电场以使得所述屏蔽电极对应的显示面板的区域不透光。
8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述制作阵列基板的步骤中还包括制作绝缘层的图形的步骤,所制作的绝缘层位于屏蔽电极与多根数据线之间,以使得所述屏蔽电极与多根数据线互不导通。
9.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述制作阵列基板的步骤中还包括制作多根栅线的图形的步骤,并使所述多根栅线与所述多根数据线交叉设置;在制作屏蔽电极的图形的步骤中,所制作的屏蔽电极为多个,使每个屏蔽电极均位于相邻两根栅线之间的数据线上方,且与所述相邻两根栅线中的任一相连。
10.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述制作阵列基板的步骤中还包括制作多根栅线及多根公共电极线的步骤,并使所述多根栅线与所述多根数据线交叉设置,使所述多根公共电极线分别与所述公共电极相连,且每根公共电极线均与一根栅线平行设置;
在制作屏蔽电极的图形的步骤中,所制作的屏蔽电极为一个,使该屏蔽电极与多根公共电极线中的任一相连;
或者,在制作屏蔽电极的图形的步骤中,所制作的屏蔽电极为多个,使每个屏蔽电极均位于相邻两根栅线之间的数据线上方,且与相邻的一根公共电极线相连;
或者,在制作屏蔽电极的图形的步骤中,所制作的屏蔽电极为多个,使每个屏蔽电极均位于一根数据线上方,且与多根公共电极线中的任一相连。
11.根据权利要求7-10中任一所述的制作方法,其特征在于,所述制作阵列基板的步骤中还包括制作像素电极的图形的步骤,所述屏蔽电极的图形与像素电极的图形在同一次构图工艺中完成,且所述屏蔽电极的图形与像素电极的图形互不重合;所述屏蔽电极与像素电极的材质相同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210262807.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种油水分离装置
- 下一篇:一种无机颜料喷雾干燥器