[发明专利]一种传感器的制造方法

权利要求书

1.一种传感器的制造方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上通过一次构图工艺形成源极和漏极的图形，与漏极连接的数据线的图形，与源极连接的接收电极的图形，位于接收电极之上的光电二极管的图形，以及位于光电二极管之上的透明电极的图形；其中，所述源极和漏极相对而置形成沟道；

通过一次构图工艺形成位于源极和漏极之上的欧姆层的图形；

通过一次构图工艺形成位于欧姆层之上并覆盖沟道的有源层的图形；

通过一次构图工艺形成栅极绝缘层的图形，所述栅极绝缘层在透明电极的上方具有通孔；

通过一次构图工艺形成位于栅极绝缘层之上、沟道上方的栅极的图形，与栅极连接的栅线的图形，以及在透明电极的上方通过通孔与透明电极连接的偏压线的图形。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在形成栅极的图形、栅线的图形和偏压线的图形的步骤之后，该方法进一步包括：

通过一次构图工艺形成覆盖基板的钝化层的图形，所述钝化层具有信号引导区过孔。

3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺形成源极和漏极的图形、数据线的图形、接收电极的图形、光电二极管的图形和透明电极的图形，具体包括：

在衬底基板上依次沉积数据线金属、N型半导体层、I型半导体层、P型半导体层和透明电极层，并在透明电极层之上涂覆光刻胶；

采用具有全透光区、半透光区和不透光区的掩模板对基板进行曝光，其中，不透光区对应形成接收电极、PIN光电二极管和透明电极的区域；半透光区对应形成源极、漏极和数据线的区域；

对基板进行显影、刻蚀，形成透明电极的图形、光电二极管的图形和接收电极的图形；

对基板进行灰化、刻蚀和光刻胶剥离，形成源极和漏极的图形，以及数据线的图形。

4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述透明电极的图形通过湿法刻蚀形成，或者，所述透明电极的图形与光电二极管的图形同时通过干法刻蚀形成。

5.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述源极、漏极、数据线和接收电极的材质相同；所述栅线、栅极和偏压线的材质相同。