[发明专利]光刻胶组合物有效

专利信息
申请号: 201210264011.1 申请日: 2012-05-28
公开(公告)号: CN102799068A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 李明琦;E·阿恰达;刘骢;陈庆隆;山田晋太郎;C-B·徐;J·玛蒂亚 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/004
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 樊云飞
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 光刻 组合
【权利要求书】:

1.一种组合物,其包含:

酸敏感聚合物,和

具有如下通式的环状锍化合物:

(Ra)l-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X

其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基,C6-30芳基,C7-30芳烷基,或包含前述至少一种的组合,

Ar是单环、多环、或稠合多环C6-30芳基,

每个Rb独立地为H、F、直链或支链的C1-10氟烷基、或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基,

L是C1-30的连接基团,其任选包含杂原子,所述杂原子包含O、S、N、F,或包含至少一种前述杂原子的组合,

X是取代或未取代的C5或更大的单环、多环或稠合多环脂环基团,任选包含杂原子,所述杂原子包含O、S、N、F,或包含前述至少一种的组合,并且,

l是0到4的整数,m是3到20的整数,n是0到4的整数,且p是0到2的整数。

2.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,X是取代或未取代的,并且是C19或更小的金刚烷基、C19或更小的降冰片烯基、C7-20内酯、甾族基团、或C20或更大的非甾族有机基团。

3.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,p是1,X是取代或未取代的C5或更大的单环、多环或稠合多环脂环基团,任选包含杂原子,所述杂原子包含O、S,或包含前述至少一种的组合,并且L是包括-O-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-NR或者-O-C(=O)-N-部分的C1-30连接基团,其中R是H或X。

4.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述酸敏感聚合物包含具有保护碱溶性基团的酸可裂解的保护基团的结构单元,其中碱溶性基团包含羧酸基团、磺酸基团、酰胺基团、磺酰胺基团、磺酰亚胺基团、酰亚胺基团、苯酚基团、硫醇基团、氮杂内酯基团、羟肟基团,或包含前述至少一种的组合。

5.如权利要求4所述的组合物,其特征在于,所述具有酸可裂解的保护基团的结构单元衍生自具有如下通式的单体:

H2C=C(Rc)-C(=O)-O-A1

其中Rc是H、C1-6烷基、F,或者CF3,和

A1是C4-50的含有叔烷基的基团,其中A1的叔基中心连接到单体的酯氧原子上。

6.如权利要求4所述的组合物,其特征在于,所述具有酸可裂解的保护基团的结构单元衍生自具有如下通式的单体:

H2C=C(Rd)-C(=O)-O-C(Re)2-O-(CH2)o-A2

其中,Rd是H、C1-6烷基、F,或者CF3

每个Re独立的是H或C1-4烷基,

A2是C1-30脂环基团或C1-4烷基,且

o是0到4的整数。

7.如权利要求4所述的组合物,其特征在于,A1是叔丁基,1-乙基环戊基,1-甲基环戊基,1-乙基环己基,1-甲基环己基,2-乙基-2-金刚烷基,2-甲基-2-金刚烷基,1-金刚烷基异丙基,2-异丙基-1-金刚烷基,或包含前述的至少一种的组合。

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