[发明专利]射流调节器

权利要求书

1.一种射流调节器（1），具有射流调节器壳体，在射流调节器壳体的壳体内腔中可旋转地支承转盘（9），该转盘（9）在至少一个盘局部区域中构造成液体可透过的，并且该转盘（9）与转盘驱动装置处于驱动连接中，所述转盘驱动装置将流过射流调节器壳体的水的用作旋转驱动力的流动转化为转盘（9）的旋转运动。

2.根据权利要求1所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）具有多个通流孔（10），所述通流孔（10）优选以相对于旋转轴线不同的间距设置，并且在所述通流孔的围绕旋转轴线的圆形轨道上，至少一个圆形轨道区段未设有孔。

3.根据权利要求1或2所述的射流调节器，其特征在于，转盘交替地打开或关闭这样的通流，该通流通到在射流调节器壳体中的至少一个沿流动方向处于下游的限制通流的元件。

4.根据权利要求1至3之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘驱动装置具有在转盘的流入侧和/或流出侧上突出的至少一个驱动翼片，该驱动翼片倾斜于转盘平面设置，使得碰撞到所述至少一个驱动翼片上的水向转盘施加旋转驱动力。

5.根据权利要求1至4之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）的作为转盘驱动装置的至少一个通流孔（10）具有倾斜于旋转轴线的孔纵轴线，使得流过倾斜的所述至少一个通流孔（10）的水向转盘（9）施加旋转驱动力。

6.根据权利要求1至5之一所述的射流调节器，其特征在于，在射流调节器壳体中在转盘（9）的沿流动方向的下游设置形成射流的和/或调节射流的至少一个嵌件。

7.根据权利要求1至6之一所述的射流调节器，其特征在于，在射流调节器壳体中在转盘（9）的沿流动方向的下游设置一个孔板和/或至少一个栅格结构或网状结构。

8.根据权利要求1至7之一所述的射流调节器，其特征在于，能嵌入射流调节器壳体中的所述至少一个嵌件具有带有在交叉节点上相交的隔片的栅格结构或网状结构。

9.根据权利要求1至8之一所述的射流调节器，其特征在于，在转盘（9）的下游直接设置射流分解器（4），所述射流分解器优选构造为孔板。

10.根据权利要求1至9之一所述的射流调节器，其特征在于，设置在转盘（9）中的通流孔（10）设置在至少两个以相对于旋转轴线不同的间距设置的圆形轨道上。

11.根据权利要求1至10之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）能通过至少两个在旋转轴线上彼此相交的对角线分成多个扇段，并且设有通流孔（10）的扇段和未设有孔的扇段沿转盘（9）的旋转方向交替。

12.根据权利要求1至11之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）在其旋转轴线上支承在射流调节器壳体中。

13.根据权利要求1至12之一所述的射流调节器，其特征在于，在转盘（9）和在射流调节器壳体中不可移动地保持的支承座之间设置旋转支承装置和/或旋转引导装置。

14.根据权利要求1至13之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）具有横截面优选为圆形的引导壁或引导销，该引导壁或引导销与支承座上的引导销（11）或引导壁共同作用作为旋转引导装置。

15.根据权利要求1至14之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）通过两个彼此加载的支承球（17、18）安置在支承座上。

16.根据权利要求1至15之一所述的射流调节器，其特征在于，彼此加载的支承球（17、18）是优选镀铬的金属球。

17.根据权利要求1至16之一所述的射流调节器，其特征在于，在转盘（9）或支承座上构造设置在旋转轴线上的支承尖部（22），所述支承尖部点状地加载支承座或转盘（9）。

18.根据权利要求1至17之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）和/或支承座至少在加载相应的另一支承部件的局部区域中由陶瓷制成。

19.根据权利要求1至18之一所述的射流调节器，其特征在于，转盘（9）在其背离支承座的一侧上可旋转地支承。