[发明专利]散斑相关和散斑干涉相结合的三维变形测量系统及方法无效
申请号: | 201210266670.9 | 申请日: | 2012-07-30 |
公开(公告)号: | CN102788558A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 孙平;孙明勇 | 申请(专利权)人: | 山东师范大学 |
主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16;G01B11/02 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 250014 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相关 干涉 相结合 三维 变形 测量 系统 方法 | ||
1.一种散斑相关和散斑干涉相结合的三维变形测量系统,其特征是,激光器发出的激光送入扩束镜;扩束镜后方设有与入射光线成45°角倾斜放置的半透半反镜,半透半反镜的反射光照射到被测物,透射光则照射到参考物面,参考物面与PZT相移器连接构成参考光路;被测物的散斑图像经过半透半反镜由成像透镜成像在CCD摄像机上,利用被测物变形前后的两幅散斑图,计算出面内位移的二个分量;在参考光路工作时被测物表面的散斑图像与参考物面的散斑图像形成干涉散斑图像,并由成像透镜成像在CCD摄像机上,测量物体离面位移分量。
2.一种采用权利要求1所述的散斑相关和散斑干涉相结合的三维变形测量系统的测量方法,其特征是,它通过控制参考光路,将数字散斑相关和散斑干涉结合起来测量物体的三维变形;具体过程为:首先在无参考光路的参考激光时采集一幅被测物变形前的散斑图;然后加入参考光路的参考激光实现散斑干涉;加载使被测物变形,结合相移技术测量被测物的离面位移;最后去掉参考激光再采集一幅被测物变形后的散斑图;对被测物变形前后散斑图进行散斑相关运算,得到二维面内位移分量,从而实现三维变形测量。
3.如权利要求2所述的散斑相关和散斑干涉相结合的三维变形测量系统的测量方法,其特征是,具体步骤是:
步骤一:参考物面的反射光构成参考光;在无参考光时,利用CCD采集被测物变形前的散斑图;
步骤二:加入参考光路的参考光,实现数字散斑干涉;
步骤三:加载使被测物变形,结合四步相移技术测量被测物离面位移w场;
步骤四:去掉参考光;利用CCD采集被测物变形后的散斑图;
步骤五:结合步骤一的被测物变形前的散斑图和步骤四的被测物变形后的散斑图,对被测物变形前后散斑图进行散斑相关运算,得到二维面内位移分量u、v场。
4.如权利要求3所述的散斑相关和散斑干涉相结合的三维变形测量系统的测量方法,其特征是,所述步骤三中离面位移为垂直于物体表面方向的位移w场具体测量过程为:
根据光波相位变化与物体变形的相位关系:
其中,λ是所用激光的波长,θ是照明光与物体表面法线的夹角,w是物体变形的离面位移,u是物体变形的面内水平方向位移;由式(4)知,当照明光入射角度θ=0时,有:
采用已有的相移技术,计算物体变形相位进而得出w场。
5.如权利要求3所述的散斑相关和散斑干涉相结合的三维变形测量系统的测量方法,其特征是,所述步骤五的具体步骤为:所述二维面内位移分量为水平方向位移分量u和竖直方向位移分量v,散斑相关计算利用公式(1),
其中,f(x,y)为变形前的图像,(xi,yj)为变形前图像中的任意一个位移点,g(x′,y′)为变形后的图像,u、v分别对应原图像中位移点(x,y)在变形后的图像中对应点(x′,y′)的整像素位移,(xi+u,yj+v)为位移点(xi,yj)中的xi移动了u和yj移动了v得到的变形后的图像中的位移点,和为图像子区灰度平均值;
为了提高测量精度,在公式(1)的基础上利用已有的梯度算法进行亚像素位移的计算求解,梯度法所选取的相关系数计算公式为式(1)的平方,即式(2);
其中,Δu、Δv为对应于整像素位移结果的亚像素位移;
将泰勒展开,取一级近似,并令经推导得:
其中
式中,Gx表示G对xi求偏导,Gy表示G对yj求偏导,gx表示g(xi+u,yj+v)对xi求偏导,gy表示g(xi+u,yj+v)对yj求偏导,表示对xi求偏导,表示对yj求偏导,m为迭代次数。
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