[发明专利]成像光学系统、透镜单元和图像投影装置有效
| 申请号： | 201210269830.5 | 申请日： | 2012-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN102914869A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 猪子和宏 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B27/10;G02B3/00;G02B27/18;G03B21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 罗银燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 透镜 单元 图像 投影 装置 | ||
1.一种成像光学系统，包括：
透镜单元，所述透镜单元包含多个光学元件；以及
光路合成部分，所述光路合成部分包含被设置为相对于所述透镜单元的光轴而倾斜的平板，
其中，所述透镜单元包含校正部分，所述校正部分在与所述平板的法线和所述光轴两者平行的截面中具有相对于所述光轴不对称的形状。
2.根据权利要求1的成像光学系统，其中，所述校正部分是具有预定的顶角的楔形板。
3.根据权利要求1或2的成像光学系统，其中，所述校正部分是随着远离缩小侧而变薄并且向着所述缩小侧变厚的平板。
4.根据权利要求1或2的成像光学系统，其中，所述校正部分被设置为相对于所述光轴倾斜。
5.根据权利要求1或2的成像光学系统，其中，所述校正部分被设置为在轴向光束向着缩小侧被会聚的位置处沿与所述平板相同的方向倾斜。
6.根据权利要求1或2的成像光学系统，其中，所述校正部分被设置为在轴向光束向着扩大侧被会聚的位置处沿与所述平板相反的方向倾斜。
7.根据权利要求1或2的成像光学系统，其中，所述校正部分的至少一个表面是在与所述平板的法线和所述光轴平行的截面中具有曲率半径的柱面表面。
8.根据权利要求1的成像光学系统，其中，所述校正部分具有在所述多个光学元件中的任一个上形成的自由形式的表面。
9.根据权利要求1或2的成像光学系统，其中，所述校正部分被配置为能在变焦操作中沿光轴方向移动。
10.一种透镜单元，包括：
多个光学元件；以及
校正部分，所述校正部分具有相对于光轴不对称的形状。
11.一种图像投影装置，包括：
光调制元件，所述光调制元件被配置为调制来自光源的光；以及
根据权利要求1的成像光学系统，
其中，来自所述光调制元件的光经由所述成像光学系统被投影到投影表面上。
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