[发明专利]导电玻璃、其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201210272588.7 申请日: 2012-07-31
公开(公告)号: CN103570254A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 董清世;吴振辉;陈曦;李晓东;吴坚;李磊;王润 申请(专利权)人: 信义光伏产业(安徽)控股有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;B32B17/06
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 241000 安徽省芜湖市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 导电 玻璃 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种导电玻璃,包括依次层叠的玻璃基底层、钠离子阻挡层和导电膜层,其特征在于,还包括增透层,所述增透层层叠于所述导电膜层之上。

2.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述增透层为二氧化硅薄膜或氟化镁薄膜。

3.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述增透层的厚度为30~90纳米,可见光折射率为1.35~1.5。

4.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述钠离子阻挡层为SiNxOy化合物膜层,其中0.7<x<1.2,0.25<y<1。

5.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述钠离子阻挡层的厚度为50~90纳米,可见光折射率为1.6~1.8。

6.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述导电膜层的厚度为200~400纳米。

7.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述导电膜为氧化锌膜、ITO膜或FTO膜。

8.如权利要求1~7任一项所述的导电玻璃制备方法,包括如下步骤:

提供所述玻璃基底层;

通过磁控溅射在所述玻璃基底层上形成钠离子阻挡层;

通过磁控溅射在所述钠离子阻挡层上形成导电膜层;

通过磁控溅射在所述导电膜层上形成增透层,得到导电玻璃。

9.如权利要求1~7任一项所述的导电玻璃在太阳能电池、触摸屏、液晶显示器件或照明器件中的应用。

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