[发明专利]一种多层膜系统光能分布测量方法

权利要求书

1.一种多层膜系统光能分布测量方法，用于测量多层膜系统中各界面及各层膜对光能分布的影响，其特征在于，所述方法包括步骤：

(1)分别测量入射介质、各层膜及基底的光学常数和薄膜厚度；

(2)对每一界面，测量入射光无限接近该界面时的反射率、透射率和吸收率；

(3)对每一界面，测量入射光刚刚跨过该界面时的反射率、透射率和吸收率；

(4)按照从顶膜表面到膜基界面的顺序排列获得的光能分布信息，比较相邻两个测量结果，得到各界面及各层膜对光能分布的影响结果。

2.如权利要求1所述的光能分布测量方法，其特征在于，所述步骤(1)进一步包括：

(1.1)测量基底折射率和消光系数；

(1.2)在基底上逐层制备单层膜，测量每一层膜的折射率、消光系数和薄膜厚度。

3.如权利要求1所述的光能分布测量方法，其特征在于，所述步骤(2)进一步包括：

(2.1)读取与该界面相邻的入射侧薄膜的光学常数；

(2.2)用与该界面相邻的入射侧薄膜的光学常数构造虚拟基底，取代出射侧所有薄膜与基底，构建虚拟多层膜系统；

(2.3)采用等效界面方法得到所述虚拟多层膜系统的反射率和透射率，然后计算出吸收率。

4.如权利要求1所述的光能分布测量方法，其特征在于，所述步骤(3)进一步包括：

(3.1)读取与该界面相邻的出射侧薄膜的光学常数；

(3.2)用与该界面相邻的出射侧薄膜的光学常数构造虚拟基底，取代出射侧所有薄膜与基底，构建虚拟多层膜系统；

(3.3)采用等效界面方法得到所述虚拟多层膜系统的反射率和透射率，然后计算出吸收率。

5.如权利要求1所述的光能分布测量方法，其特征在于，对比入射光无限接近某界面和刚刚跨过该界面的反射、透射和吸收率，获得该界面对光能分布的影响。

6.如权利要求1所述的光能分布测量方法，其特征在于，对比刚刚跨过某界面和无限接近下一界面的反射、透射和吸收率获得该层膜对光能分布的影响。

7.如权利要求3或4所述的光能分布测量方法，其特征在于，所述吸收率的计算公式如下：

A＝1-R-T

其中A为吸收率，R为反射率，T为透射率。

8.如权利要求1-6任一权利要求所述的光能分布测量方法，其特征在于，所述各界面包括顶膜表面、膜间界面及膜基界面。