[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，经由所述投影光学系统和所述液体将图形曝光到衬底，该曝光装置具有：

配置在构成所述投影光学系统的多个光学部件中的与所述液体接触的光学部件的周围的环状的保持部件，和

向与所述液体接触的光学部件的周缘部和所述环状的保持部件之间的间隙供给气体的气体供给管。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述气体供给管防止所述液体浸入所述间隙。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述环状的保持部件具有支撑所述光学部件的保持部。

4.一种曝光装置，经由液体将衬底曝光，具有：

包括与所述液体接触的光学部件以及配置于该光学部件和图形之间的光学组的投影光学系统，

在所述光学部件和所述基板之间形成液浸区域的液浸区域形成部件，和

计测在所述光学部件的光轴方向上的所述液浸区域的厚度变化的传感器。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，在所述光学部件的附近配置有多个所述传感器。

6.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述传感器计测所述光学部件的液体接触面与所述衬底的表面之间的间隔。

7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述传感器安装在配置于所述光学部件的周围的环状的部件上。

8.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，具有基于所述传感器的检测结果检测所述光学部件与所述衬底的位置关系的传感器单元。

9.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，具有调整投影到所述衬底上的图形的像的像调整机构，

所述像调整机构基于所述传感器的检测结果来调整所述图形的像。

10.一种曝光装置，经由液体在衬底上形成图形，具有：

包括与所述液体接触的光学部件以及配置于该光学部件和图形之间的光学组的投影光学系统，

保持与所述液体接触的光学部件的第一保持部件，

保持所述光学组的第二保持部件，和

控制装置，基于与所述液体接触的光学部件的位置变化来修正所述图形对所述衬底的形成状态。

11.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述控制装置为了修正所述图形的形成状态而使所述光学组中的特定的光学元件进行微动。

12.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述控制装置为了修正所述图形的形成状态而调整形成了所述图形的掩模的位置。

13.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，具有以在振动上分离的方式将所述第一保持部件连接到所述第二保持部件的连接机构。

14.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，所述连接机构具有所述弯曲件。

15.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，所述连接机构以可动的方式相对于所述第二保持部件保持所述第一保持部件。

16.如权利要求15所述的曝光装置，其特征在于，所述连接机构具有减少所述第一保持部件的自重的自重消除机构。