[发明专利]一种光学临近矫正方法有效
| 申请号： | 201210275387.2 | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN103576443A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陈洁;王谨恒;万金垠;张雷 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 临近 矫正 方法 | ||
1.一种光学临近矫正方法，其特征在于，所述矫正方法包括步骤：
根据工艺规格确定光刻工艺参数；
根据所述光刻工艺参数确定光学临近矫正模型，建立光学临近矫正的运算程序；
清理孔与金属层叠加后形成的凸起，生产OPC待处理文件；
对所述OPC待处理文件运行所述光学临近矫正的运算程序，得到该待处理文件的修正图形；
以所述修正图形为掩膜图形，进行掩膜板制造。
2.如权利要求1所述的光学临近矫正方法，其特征在于：所述光刻工艺参数包括曝光光路的光学参数、光刻胶材料的材料参数以及刻蚀工艺的化学参数。
3.如权利要求1所述的光学临近矫正方法，其特征在于：所述清理孔与金属层叠加后形成的凸起包括步骤：
记录每个孔的位置，并生成一个孔分布坐标参数；
将金属线层图形和有孔的介质层图形进行叠加；
在叠加之后的图形上，依据各个孔位置坐标，找到有孔处的金属线，并依据孔在纵坐标上的长度尺寸，检测对应该长度范围内金属线边缘处，是否存在凸起；
对凸起的横坐标或纵坐标进行测量，得出凸起的尺寸；
根据测量得到的尺寸，利用图形处理软件执行一凸起的清理程序。
4.如权利要求3所述的光学临近矫正方法，其特征在于：所述凸起的尺寸在0.001μm×0.196μm至0.005μm×0.196μm之间。
5.如权利要求3所述的光学临近矫正方法，其特征在于：所述图形处理软件为photoshop软件或AutoCAD软件。
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