[发明专利]二氧化锗制备新工艺有效
申请号: | 201210275487.5 | 申请日: | 2012-08-03 |
公开(公告)号: | CN102774877A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 王少龙;孙成余;彭明清;杨金彩;杨汝雄;何斌;蔡文红 | 申请(专利权)人: | 云南驰宏锌锗股份有限公司 |
主分类号: | C01G17/02 | 分类号: | C01G17/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 李志东 |
地址: | 655011 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 制备 新工艺 | ||
1.一种制备二氧化锗的方法,其特征在于,包括:
四氯化锗在全密闭水解釜中进行水解,以便得到四氯化锗水解产物,所述四氯化锗水解产物为二氧化锗和氯化氢,氯化氢易溶于水而生成盐酸;
将所述四氯化锗水解产物进行离心过滤,以便得到二氧化锗和滤液;利用高纯水对所述二氧化锗进行洗涤,得到高纯二氧化锗和清洗液。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述四氯化锗是以高纯四氯化锗的形式提供的。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述水解反应是在零下5~15摄氏度下进行的。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包括将所述滤液用氢氧化钠溶液进行处理。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,利用超纯水对所述二氧化锗进行至少一次清洗,以便所得到的清洗液的pH值为7,并对所得到的二氧化锗进行干燥。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述超纯水与二氧化锗的重量比为1:1.2~1.5。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述离心过滤是在二氧化锗处理装置中进行的,所述二氧化锗处理装置包括:
机壳,所述机壳内部中空且顶部敞开,所述机壳的底部设有出料口和卸料口;
机盖,所述机盖可开闭地设在所述机壳的顶部以与机壳共同限定出容纳空间,所述机盖上设有进料口和进水口;
中心轴组件,所述中心轴组件可旋转地沿竖向设在所述机壳内部;
转动壳,所述转动壳设在所述容纳空间内,所述转动壳同轴地套设在所述中心轴组件的外部以在转动壳内部限定出处理空间,所述转动壳与所述中心轴组件同时旋转,所述转动壳的底部形成有出料口,其中所述卸料口与所述出料口对应设置;
进料组件,所述进料组件与所述进料口相连,且穿过所述转动壳以伸入到所述处理空间内,用于向所述处理空间内供给待处理的含二氧化锗的固液混合物;
进水组件,所述进水组件与所述进水口相连且穿过所述转动壳以伸入到所述处理空间内,用于向所述处理空间内供水和驱动所述中心轴组件的驱动装置。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述四氯化锗全密闭水解釜包括:
釜体,所述釜体内限定有水解反应空间;
上盖,所述上盖设置在所述釜体的顶部;
第一进料口,所述第一进料口设置在所述上盖上,用于向所述水解反应空间中供给高纯四氯化锗;
第二进料口,所述第二进料口设置在所述上盖上,用于向所述水解反应空间中供给超纯水;
排气口,所述排气口设置在所述上盖上,用于将水解反应过程中挥发的氯化氢气体从所述水解反应空间中排出;
出料口,所述排料口设置在所述釜体的底部,用于排出水解产物。
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