[发明专利]化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备，其包括腔体、冷却装置、设置在所述腔体内的顶板和衬底支撑座，所述顶板与所述衬底支撑座相对设置，所述顶板具有与所述衬底支撑座相对的第一表面，所述衬底支撑座具有面向所述顶板的衬底支撑面，所述冷却装置用于冷却所述顶板，其特征在于：所述冷却装置包括至少两个冷却单元，每个冷却单元对应所述顶板的不同区域，所述至少两个冷却单元相互独立地对所述顶板进行冷却以控制所述第一表面的温度分布。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述至少两个冷却单元包括第一冷却单元和第二冷却单元，所述顶板具有中心区域和围绕所述中心区域的边缘区域，所述第一冷却单元对应所述中心区域，所述第二冷却单元对应所述边缘区域。

3.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第二冷却单元围绕所述第一冷却单元设置。

4.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：第一冷却单元与所述顶板之间的距离小于所述第二冷却单元与所述顶板之间的距离。

5.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第一冷却单元对所述顶板的冷却能力强于所述第二冷却单元。

6.如权利要求5所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第一冷却单元包括第一冷却腔或第一冷却管道，所述第二冷却单元包括第二冷却腔或第二冷却管道，所述第一冷却腔或第一冷却管道中冷却流体的流速大于或冷却流体的温度小于所述第二冷却腔或第二冷却管道中的冷却流体。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述冷却流体为冷却水。

8.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第一冷却单元包括主冷却模块和中心冷却模块，所述主冷却模块围绕所述中心冷却模块，所述顶板包括中心部和主体部，所述中心部位于所述中心区域的中心，所述主体部位于所述中心部与所述边缘区域之间，所述中心冷却模块对应所述中心部，所述主冷却模块对应所述主体部。

9.如权利要求8所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述中心冷却模块和所述主冷却模块相互独立地对所述顶板进行冷却。

10.如权利要求9所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述中心冷却模块与所述顶板之间的距离小于所述主冷却模块与所述顶板之间的距离。

11.如权利要求9所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述中心冷却模块对所述顶板的冷却能力强于所述主冷却模块。

12.如权利要求1至11中任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述冷却装置使得所述顶板的第一表面温度均匀。

13.如权利要求1至11中任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述冷却装置使得位于所述顶板边缘区域的第一表面温度高于位于所述顶板中心区域的第一表面温度。

14.如权利要求13所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述位于所述顶板中心区域的第一表面温度均匀。

15.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述冷却装置设置在所述顶板背离所述衬底支撑座的一侧。

16.如权利要求15所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述顶板邻近所述腔体的顶壁设置，所述冷却装置设置在所述顶板与所述腔体的顶壁之间。

17.如权利要求15或16所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述冷却装置紧贴所述顶板设置。

18.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述化学气相沉积设备包括一喷淋头结构，所述喷淋头结构与所述衬底支撑座相对设置，所述顶板为所述喷淋头结构临近所述衬底支撑座的一侧的气体分配板。

19.如权利要求18所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述冷却装置设置在所述喷淋头结构背离所述衬底支撑座一侧。

20.如权利要求19所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述喷淋头结构设置在所述腔体的顶部，所述冷却装置设置在所述腔体的顶壁与所述喷淋头结构之间。