[发明专利]一种高温抗氧化铱基纳米晶复合涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高温抗氧化复合涂层，其特征在于该涂层分为两层，内层由铱组成，表层由铱基合金组成，其中铱涂层厚度为1μm ~5 μm，铱基合金涂层厚度为10μm ~20 μm。

2.根据权利要求书1所述的复合涂层，其特征在于涂层中的合金元素为钛、铌、钒、锆、铪、钽、钇、铝、钨、铑、铂中的一种或多种。

3.根据权利要求书1所述的复合涂层，其特征在于涂层中的合金以单质和/或金属间化合物形式存在。

4.一种高温抗氧化铱基纳米晶复合涂层的制备方法，其特征在于在基体材料的表面制备双层结构的复合涂层；首先在基体材料的表面制备一层纳米晶铱涂层；然后在铱涂层的表面制备一层铱基纳米晶涂层，其中铱含量为50 at.%~95 at.%，余量为合金元素。

5.根据权利要求书4所述的制备方法，其特征在于制备铱涂层采用物理气相沉积和化学气相沉积方法。

6.根据权利要求书5所述的制备方法，其特征在于内层铱涂层所采用的物理气相沉积是双层辉光等离子表面改性、激光脉冲沉积、磁控溅射或电子束物理气相沉积。

7.根据权利要求书5所述的制备方法，其特征在于内层铱涂层所采用的化学气相沉积是激光化学气相沉积或金属基化学气相沉积。

8.据权利要求书4所述的制备方法，其特征在于制备铱基合金涂层采用的方法是物理气相沉积。

9.根据权利要求书8所述的制备方法，其特征在于铱基涂层所采用的物理气相沉积是磁控溅射或电子束物理气相沉积。

10.根据权利要求书4或5或8所述的制备方法，其特征在于制备铱涂层所采用的方法是双层辉光等离子表面改性；在铱涂层上制备铱基涂层所采用的方法是磁控溅射。