[发明专利]掩模块件及使用其的有机气相沉积装置与热蒸镀装置

权利要求书

1.一种掩模块件，设置在一气体出口与一待镀基板之间，其特征在于，包含有：

一像素掩模，设置在所述气体出口与所述待镀基板之间，且具有多个第一开口；以及

一阻热掩模，设置在所述气体出口与所述像素掩模之间，且具有多个第二开口，其中各所述第二开口对应至少一所述第一开口设置。

2.如权利要求1所述的掩模块件，其特征在于，还包括一第一框架，且所述阻热掩模固定在所述第一框架上。

3.如权利要求2所述的掩模块件，其特征在于，还包括一第一隔热胶层，设置于所述阻热掩模与所述第一框架之间。

4.如权利要求2所述的掩模块件，其特征在于，还包括一第二框架，且所述像素掩模固定在所述第二框架上。

5.如权利要求4所述的掩模块件，其特征在于，所述第一框架设置在所述阻热掩模与所述气体出口之间，且所述第二框架设置在所述像素掩模与所述阻热掩模之间。

6.如权利要求4所述的掩模块件，其特征在于，所述第一框架设置在所述阻热掩模与所述像素掩模之间，且所述第二框架设置在所述像素掩模与所述待镀基板之间。

7.如权利要求4所述的掩模块件，其特征在于，还包括一第二隔热胶层，设置于所述像素掩模与所述第二框架之间。

8.如权利要求4所述的掩模块件，其特征在于，所述第一框架设置在所述阻热掩模与所述气体出口之间，且所述第二框架设置在所述像素掩模与所述待镀基板之间。

9.如权利要求8所述的掩模块件，其特征在于，还包括至少一间隙物，设置在所述阻热掩模与所述像素掩模之间，并与所述阻热掩模以及所述像素掩模相接触。

10.如权利要求2所述的掩模块件，其特征在于，所述像素掩模固定在所述第一框架上，且所述第一框架设置在所述阻热掩模与所述像素掩模之间。

11.如权利要求10所述的掩模块件，其特征在于，还包括一第三隔热胶层，设置于所述像素掩模与所述第一框架之间。

12.如权利要求2所述的掩模块件，其特征在于，还包括一冷却回路，设置在所述第一框架中，用以传输一冷却物质，以冷却所述第一框架。

13.如权利要求1所述的掩模块件，其特征在于，所述阻热掩模包括一体成型的一掩模部以及一框架部，且所述框架部的厚度大于所述掩模部的厚度。

14.如权利要求13所述的掩模块件，其特征在于，所述像素掩模固定于所述框架部上。

15.如权利要求1所述的掩模块件，其特征在于，还包括一隔热层，设置在所述阻热掩模面对所述气体出口的表面上。

16.如权利要求1所述的掩模块件，其特征在于，各所述第二开口大于各所述第一开口。

17.如权利要求1所述的掩模块件，其特征在于，所述阻热掩模为一共同掩模，且各所述第二开口对应多个所述第一开口设置。

18.一种有机气相沉积装置，用以沉积一有机材料于一待镀基板上，其特征在于，所述有机气相沉积装置包括：

一气体源，用以提供一待镀气体；

一控制阀，连接于所述气体源的出口，用以控制所述气体源的气体的流量与开关；

一气体喷头，对准所述待镀基板；

一管线，一端连接于所述控制阀，另一端连接于所述气体喷头，用以将所述待镀气体传递至所述气体喷头；以及

一掩模块件，设置在所述气体喷头与所述待镀基板之间，所述掩模块件包括：

一像素掩模，设置在所述气体喷头与所述待镀基板之间，且具有多个第一开口；以及

一阻热掩模，设置在所述气体喷头与所述像素掩模之间，且具有多个第二开口，其中各所述第二开口对应至少一所述第一开口设置。

19.一种热蒸镀装置，用以蒸镀一有机材料至一待镀基板上，其特征在于，所述热蒸镀装置包括：

一蒸镀源，用以蒸发所述有机材料；以及

一掩模块件，设置在所述蒸镀源与所述待镀基板之间，所述掩模块件包括：

一像素掩模，设置在所述蒸镀源与所述待镀基板之间，且具有多个第一开口；以及

一阻热掩模，设置在所述蒸镀源与所述像素掩模之间，且具有多个第二开口，其中各所述第二开口对应至少一所述第一开口设置。