[发明专利]一种应用于人造石的水转印制备工艺

权利要求书

1.一种应用于人造石的水转印制备工艺，包括如下工艺步骤:

a.表面处理工序，对人造石的表面进行粗糙处理；

b.水洗工序，在人造石的表面用水进行冲洗；

c.干燥工序，将人造石产品放在常温下干燥或加热烘干其表面水分；

d.喷底漆工序，在即将水转印的人造石表面喷上底漆，使喷有底漆的人造石在常温或加热干燥；

e.薄膜活化工序，将水转印薄膜平铺于转印水槽的水面上，保持水槽中的水清洁且处于中性状态，待薄膜伸展平整后，用活化剂在图文层表面均匀地喷涂，使图文层活化成油墨状态；

f.水转印工序，选择好下水角度，将人造石产品逐渐贴近水转印薄膜，图文层会在水压的作用下转移到人造石产品的表面，人造石产品底漆表面固有的黏附作用而产生附着力使油墨状态的图文吸附于人造石的底漆表面，实现图文层上膜于人造石产品上；

g.水洗工序，将人造石产品从转印水槽中取出，用清水洗去未能附着在人造石产品表面的浮层；

h.烘干工序，将人造石产品放在常温下干燥或加热烘干其表面的水分，使转印图层彻底干燥，增加附着强度；

i.喷涂面漆工序，在附有图文层的人造石产品表面喷一层透明的保护漆；

j.干燥工序，将喷有透明保护漆的人造石产品放在常温下干燥或加热烘干，得到由水转印技术印刷有彩色图案的人造石产品。

2.根据权利要求1所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤a是通过物理方法或/和化学方法对人造石表面进行粗糙处理，所述物理方法是在人造石的表面进行粗糙打磨处理，所述化学方法是将人造石侵泡在具有腐蚀性的溶液内。

3.根据权利要求2所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述溶液为酸性溶液，所述酸性溶液的浓度为1～7%，人造石浸泡在酸性溶液内的时间为30～90秒。

4.根据权利要求3所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述酸性溶液可选用硫酸、磷酸、硝酸或盐酸中的其中一种。

5.根据权利要求1所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤d的底漆成分主要包括PU漆、固化剂和开油水。

6.根据权利要求1所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤e中转印槽的水温为10～42⁰C。

7.根据权利要求1所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤c、步骤d、步骤h和步骤j中的加热温度为45～80⁰C，烘干时间为10～50分钟。

8.根据权利要求7所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤c、步骤d、步骤h和步骤j中的加热温度为55～65⁰C，烘干时间为25～35分钟。

9.根据权利要求8所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤c、步骤d、步骤h和步骤j中的加热温度为60⁰C，烘干时间为30分钟。

10.根据权利要求1所述应用于人造石的水转印制备工艺，其特征在于：所述步骤i中的面漆可以是PU漆、UV漆、聚氨酯中的任意一种。