[发明专利]超声辅助阳极氧化制备超大孔间距多孔氧化铝膜的方法有效

专利信息
申请号: 201210282992.2 申请日: 2012-08-10
公开(公告)号: CN102839408A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 丁建宁;朱云;丁古巧;袁宁一 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: C25D11/12 分类号: C25D11/12
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 213164 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 超声 辅助 阳极 氧化 制备 超大 间距 多孔 氧化铝 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及多孔阳极氧化铝膜,特指超声辅助阳极氧化制备超大孔间距多孔氧化铝膜的方法,属于金属表面处理技术和纳米科技领域,其应用领域包括有色金属表面处理以及纳米结构新材料制备和应用。 

背景技术           

多孔阳极氧化铝,Porous Anodic Alumina,PAA,不仅对铝金属表面处理非常重要,同时也是纳米结构材料制备和组装的重要模板;PAA典型结构是圆形孔周期排列,形成纳米孔阵列结构,孔与孔之间的孔壁由非晶氧化铝组成;PAA的 孔径大小是一个非常重要的参数,比如作为过滤膜时决定截留物体的尺寸,作为模板使用时决定所制备纳米材料的尺度,阳极氧化得到的PAA的孔径大小与电解电压,温度和时间等参数相关。 PAA的孔径可通过磷酸进一步扩孔,直到孔壁为10纳米左右;如,在0.3M草酸中,电解电压为40 V,电解温度为0-5oC下,阳极氧化获得的PAA模板初始孔径为40 nm,初始孔间距为100 nm,通过控制磷酸扩孔过程,孔径可以从40 nm到90 nm连续变化,孔间距不变,因此,PAA的孔间距决定了PAA孔径的可调节范围。

PAA的孔间距主要是由电解电压决定,并与电解电压基本呈现线性正比关系,因此要提高PAA的孔间距主要是要提高电解电压;在3 wt%磷酸溶液中,电解电压可以提高到195 V下,在1 vol%磷酸溶液中,273 K,电解电压可以提高到235 V,获得480 nm孔间距的PAA膜;在4 wt%苹果酸的溶液中,电解电压为220 V,获得的孔间距约为550 nm的PAA膜;在2 wt%酒石酸溶液中240 V,274 K下得到平均孔间距约600 nm的PAA膜。在柠檬酸电解液中,电解电压可以达到240 V。 

大量实验表明,虽然在柠檬酸和苹果酸等弱酸中能够将电解电压上升到200 V以上,但要上升到300 V甚至更高极为困难,并且生长速率很低;在0.3M草酸中40V电解电压,0-5摄氏度,PAA的生长速率为3-5 μm/h,但在柠檬酸和苹果酸等电解液中相应的生长速率只有1-2 μm/h;在电解液中添加乙醇,乙二醇,或聚乙二醇,可以进一步提高电解电压,但相对于没有添加有机物的电解液,PAA的生长速率更低;因此,需要寻求一种能够在超高电压下稳定电解并且生长速率适中的PAA制备工艺,进一步拓宽PAA的孔间距大小。 

发明内容

本发明针对技术背景中所阐述的超大孔间距PAA工艺的诸多不足(目前电解电压不足以制备孔径能够到微米的PAA,以及PAA的生长速率较低等),使用在柠檬酸电解液中添加乙醇提高电解电压,结合超声工艺提高电解速率,并实现超高电压(>500V)稳定电解,并获得孔间距超过1微米的超大孔间距PAA;本发明只需要二次阳极氧化工艺,对铝片前处理没有苛刻要求,不需要复杂的退火,抛光或预图案化等前处理步骤;本发明在电解过程中不需要像硬质阳极氧化(Hard Anodization)一样需要极低的温度,在很宽的温度范围内(0-30 oC)都能够进行稳定的生长。 

为了实现上述目的,本发明通过以下技术方案实现超大孔间距PAA的制备:第一步,以铝片为阳极,配置柠檬酸溶液和无水乙醇的混合电解液,使电解液处于超声状态,电解时间0.5-2小时;第二步:在磷酸和铬酸的混合溶液中去除PAA膜;第三步:电解液体系、电解电压和温度与第一步相同,电解时间根据需要的孔深确定。 

所述的第一步,铝片具体是指纯度高于99 %, 厚度为0.05-1 mm的铝片,经过丙酮和去离子水清洗后烘干作为阳极,以石墨、铅版或铂金为阴极;柠檬酸与无水乙醇的体积比为1:1~2,柠檬酸的浓度为0.3M,超声功率和频率分别为100-200 W和35~50kHz,电解电压为500-750 V,电解温度为0-30 oC,电解时间为0.5-2h。 

所述的第二步,磷酸和铬酸混合溶液中,磷酸的重量百分比为6.0 %,铬酸的重量百分比为1.8 %,温度为60 oC,浸泡为第一步电解时间的两倍,即1-4 h。 

所述的第三步,电解电压与第一步相同,电解时间决定PAA膜的厚度,典型电解时间为5分钟到2小时。 

按上述超声辅助制备超大孔间距阳极氧化铝膜的方法,制备的超大孔间距为1-1.5μm。 

按上述超声辅助制备超大孔间距阳极氧化铝膜的方法,生长速率达到4-60 μm/h。 

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