[发明专利]具有双分划板边部掩蔽组件的光刻装置及其使用方法有效
申请号: | 201210283212.6 | 申请日: | 2012-08-09 |
公开(公告)号: | CN103383525A | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 吴东立;林进祥;刘恒信;彭瑞君 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 双分划板边部 掩蔽 组件 光刻 装置 及其 使用方法 | ||
1.一种光刻装置,包括:
光束分离元件,被设置为将从光源发射出的光束分成多条准直光束;
至少两个分划板边部掩蔽组件(REMA),其中每个REMA都被设置成接收所述多条准直光束中的一条,并且每个REMA都包括用于使这一条准直光束穿过的可移动狭缝;
至少一个掩模,所述掩模具有图案,其中,所述至少一个掩模被设置为接收来自至少一个REMA的光;以及
投影透镜,被设置为接收由所述至少一个掩模传送的光。
2.根据权利要求1所述的光刻装置,其中,所述至少一个掩模是至少两个掩模,并且每个掩模都接收来自所述至少两个REMA中的一个REMA的光。
3.根据权利要求2所述的光刻装置,其中,所述至少两个掩模中的至少一个掩模具有与至少另一个掩模不同的图案。
4.根据权利要求2所述的光刻装置,其中,所述至少两个掩模中的每个掩模都具有相同的图案。
5.根据权利要求1所述的光刻装置,其中,所述至少一个掩模是一个掩模,并且所述掩模接收来自所述至少两个REMA中的所有REMA的光。
6.一种图案化晶圆的方法,包括:
从光源发射出具有一波长的光束;
使用光束分离元件将所述光束分成多条准直光束;
通过分划板边部掩蔽组件(REMA)传送所述多条准直光束中的每一条,使得所述多条准直光束的数量与REMA的数量相等;
通过使所述多条准直光束穿过至少一个掩模来形成图案化光束;
使用投影透镜减小所述图案化光束的尺寸,其中,所述投影透镜发射减小的图案化光束;
使用所述减小的图案化光束来对所述晶圆的第一区域进行图案化;以及
在对所述第一区域进行图案化后,使用可移动台移动所述晶圆,其中,所述可移动台支撑所述晶圆。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,对所述晶圆的第一区域进行图案化包括在第一方向上移动第一REMA的可移动狭缝,以及在第二方向上移动所述晶圆,所述第二方向与所述第一方向相反。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,对所述晶圆的第一区域进行图案化包括将第二REMA的可移动狭缝移动到第一位置。
9.根据权利要求7所述的方法,进一步包括:
使用所述减小的图案化光束对所述晶圆的第二区域进行图案化;
其中,从所述第一REMA传送用于对所述晶圆的第一区域进行图案化的所述减小的图案化光束,以及通过第二REMA传送用于对所述晶圆的第二区域进行图案化的所述减小的图案化光束。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,对所述晶圆的第二区域进行图案化包括通过在所述第二方向上移动所述可移动狭缝来将所述第一REMA的所述可移动狭缝移动到第一位置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210283212.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。