[发明专利]一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷装置及方法

权利要求书

1.一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷装置，其特征在于：该装置包括一级除砷罐(2)、一级除砷罐搅拌机(3)、一级提升泵(4)、二级除砷罐(5)、二级除砷罐搅拌机(6)、二级提升泵(7)、中间池(8)、三级提升泵(9)、砂滤池(10)、清水池(11)和反冲泵(12)；其中，一级除砷罐(2)出水口经一级提升泵(4)与二级除砷罐(5)进水口连通；二级除砷罐(5)出水口经二级提升泵(7)与中间池(8)进水口连通；中间池(8)出水口经三级提升泵(9)与砂滤池(10)进水口连通；砂滤池(10)与清水池(11)通过管道连通；清水池(11)经反冲泵(12)与砂滤池(10)反冲水进口连通。

2.一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷方法，其特征在于步骤为：

1)通过自流或泵提，将原水输送至一级除砷罐(2)，进行序批式絮凝沉淀除砷，沉淀除砷过程包括进水、pH调节、絮凝、沉淀和出水；

2)经过步骤1)处理后的上清液进入二级除砷罐(5)，首先进行氧化反应，将三价砷氧化成五价砷，然后再进行序批式絮凝沉淀除砷，沉淀除砷过程包括进水、氧化、pH调节、絮凝、沉淀和出水；

3)经过步骤2)处理的上清液首先汇入中间池(8)，然后通过三级提升泵(9)输送至砂滤池(10)进行重力过滤，过滤后最终出水进入清水池(11)，最后外排；

4)砂滤池(10)需利用反冲泵(12)定期进行反冲洗，反冲洗水取自清水池(11)。

3.根据权利要求2所述的一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷方法，其特征在于：步骤1)中絮凝沉淀所用的絮凝剂为氯化铁，pH调节时先用氢氧化钙进行调节，然后再用氢氧化钠调节pH调至6.5～7.0；絮凝过程中所用到的助凝剂为水解度为25的阴离子聚丙酰胺；反应液中铁离子浓度为800～1200mg/L，氢氧化钙浓度为400～500mg/L，聚丙酰胺浓度为3～5mg/L。

4.根据权利要求2所述的一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷方法，其特征在于：步骤2)中氧化反应所用的氧化剂为次氯酸钠，絮凝剂为氯化铁，pH调节剂为氢氧化钠，助凝剂为水解度为25的阴离子聚丙酰胺；反应液中有效氯浓度为100～200mg/L，铁离子浓度为20～30mg/L，阴离子聚丙酰胺浓度为2～3mg/L，用氢氧化钠将絮凝沉淀pH调至6.5～7.0。

5.根据权利要求2所述的一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷方法，其特征在于：步骤3)中砂滤采用重力过滤。