[发明专利]硅料沉淀分选清洗溶液及其配制与使用方法

权利要求书

1.硅料沉淀分选清洗溶液，其特征在于：清洗溶液指具有清洗作用且溶液密度小于待清洗多晶硅材料的溶液；当含有杂质的硅材料投入到溶液中，杂质会漂浮到溶液表面，而硅材料会沉在溶液底部。

2.根据权利要求1所述的硅料沉淀分选清洗溶液，其特征在于：所述清洗溶液密度为2.33g/ml 以下。

3.根据权利要求1所述的硅料沉淀分选清洗溶液，其特征在于：所述清洗溶液密度为1.70g/ml～2.30g/ml。

4.根据权利要求1或2或3所述的硅料沉淀分选清洗溶液，其特征在于：述清洗溶液指含有三氯化锑溶液、氯化锌溶液的混合液体。

5.一种如权利要求4所述的硅料沉淀分选清洗溶液的配制方法，其特征在于：在30至50摄氏度的水域条件下配置三氯化锑溶液，直至溶液饱和，形成溶液1；在60至90摄氏度水域条件下配置氯化锌溶液，直至溶液饱和，形成溶液2；把溶液2与溶液1混合，并调节两种溶液的比例，从而得到密度为1.70g/ml～2.30g/ml的清洗溶液。

6.根据权利要求3所述的硅料沉淀分选清洗溶液的配制方法，其特征在于：所述的清洗溶液指密度为2.25g/ml的溶液。

7.一种利用如权利要求1或5所述的硅料沉淀分选清洗溶液对硅料进行清洗的方法，其特征在于包括以下步骤：a配制密度小于硅料的清洗溶液；b将干爽的硅材料投入清洗溶液中，浸泡10秒钟以上；c用溢流方法将杂质去除；d把硅片取出，用清水冲洗干净，即可得到干净的硅片。