[发明专利]硬涂薄膜

说明书

技术领域

本发明涉及硬涂薄膜，更具体涉及铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件的硬涂薄膜。

背景技术

硬涂薄膜主要用于显示器表面，但是近年越来越广泛用于触摸面板等移动设备。触摸面板用的显示器要求与一般的显示器不同的要求性能。特别是，由于时常携带并且接触于硬涂表面而操作，因此强烈期望提高表面硬度。提高表面硬度的技术正在比以前更多地被研究。例如在专利文献1、2的技术中，在硬涂层的底层设置缓冲层或低硬度的硬涂层而实现高的铅笔硬度。但是，由于该技术中为多层结构，因此干涉条纹等外观缺点的产生、制造成本的提高令人担忧。另外，虽然仅通过使硬涂层变厚也可获得高的铅笔硬度，但是在此情况下产生弯曲性降低、裁剪加工适应性和/或冲压加工适应性降低的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-300873号公报

专利文献2：日本特开2007-219013号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明在这样的状况下被开发，其目的在于提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。

用于解决问题的方案

本发明人等为了实现前述目的而反复进行了深入研究，结果获得了下述的见解。硬涂薄膜的铅笔硬度依照JIS K5600-5-4根据铅笔刮擦硬度试验机而测定。在此情况下，在玻璃等的硬质材料面上，将硬涂薄膜按照其基材侧相接的方式载置，一边对铅笔刮擦部件施加规定的载荷，一边使该部件成为倾斜45度，以1mm/秒左右的速度进行刮擦硬涂层面的操作。

此时有下述发现，硬质材料面与硬涂薄膜的基材面密接并且该薄膜没有挠曲时，前述刮擦部件的载荷施加于硬涂层两面上，铅笔硬度降低，另一方面，硬涂薄膜不密接于硬质材料面而具有挠曲时，则铅笔硬度提高。

本发明人等基于前述见解而进一步推进了研究，结果有下述发现，在透明基材薄膜的一个面上，使特定的组成的硬涂层形成材料固化，形成表面的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下的具有规定的厚度的硬涂层，并且将透明基材薄膜的该硬涂层侧的相反侧的表面的算术平均粗糙度Ra设定为特定的范围，从而可获得具有高的透射像清晰度、且铅笔硬度为3H以上的硬涂薄膜。

本发明基于这些见解而完成。

即，本发明提供如下发明：

[1]一种硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JIS K 7374：2007测定，以针对狭缝宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm的5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示；

[2]根据上述[1]项所述的硬涂薄膜，其中，3～6官能单体为(甲基)丙烯酸酯类单体；

[3]根据上述[1]或[2]项所述的硬涂薄膜，其中，依照JIS K7136测定的雾度值为2％以下；

[4]根据上述[1]～[3]项中任一项所述的硬涂薄膜，其用作触摸面板用部件；以及

[5]根据上述[4]项所述的硬涂薄膜，其中，触摸面板为电阻膜式触摸面板。

发明的效果

根据本发明可提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。

具体实施方式