[发明专利]用于微光刻的投射物镜

权利要求书

1.光学系统，包括：

-用于微光刻的照明光学系统（6），用于引导由光源（2）发射的照明光（3），以及用于照明物场（4）；

-投射光学系统（16），用于将所述物场（4）成像为像场（8）；

-其中，将所述照明光学系统（6）设计为使得所述照明光（3）在所述光源（2）和所述物场（4）之间具有中间焦点（23），

其特征在于所述投射光学系统（16）的总长度（T）与中间焦点像位移（D）之间的比小于5。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于所述投射光学系统是用于将物平面（5）中的物场（4）成像为像平面（9）中的像场（8）的用于微光刻的投射物镜，所述投射物镜（7；14；15）包括

-至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形状反射表面，

-其中，所述投射物镜（7；14；15）的总长度（T）与物像位移（d_OIS）之间的比小于12。

3.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于所述投射光学系统是用于将物平面（5）中的物场（4）成像为像平面（9）中的像场（8）的用于微光刻的投射物镜（7；14；15），所述投射物镜（7；14；15）包括

-至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形状反射表面，所述自由形状反射表面是不能通过相对于所标记的轴旋转对称的函数描述的表面，该标记的轴为所述反射镜的表面的表面区域的法线，

-其中，所述像平面（9）是所述物平面（5）的下游的所述投射物镜（7；14；15）的第一个场平面。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其中所述投射物镜具有的总长度（T）与物像位移（d_OIS）之间的比小于5。

5.根据权利要求3所述的光学系统，其特征在于所述自由形状反射表面是双锥表面。

6.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于所述投射光学系统是用于将物平面（5）中的物场（4）成像为像平面（9）中的像场（8）的用于微光刻的投射物镜（7；14；15），所述投射物镜（7；14；15）包括

多个反射镜（M1至M6），

其特征在于总长度（T）与物像位移（d_OIS）之间的比小于2。

7.根据权利要求6所述的光学系统，其中所述投射物镜包括至少六个反射镜（M1至M6）。

8.根据权利要求6或7所述的光学系统，其特征在于所述反射镜（M1至M6）中的至少一个具有自由形状反射表面。

9.根据权利要求8所述的光学系统，其特征在于所述自由形状反射表面是双锥表面。

10.根据权利要求6或7所述的光学系统，其特征在于所述像平面（9）是所述物平面（5）的下游的所述投射物镜（7；14；15）的第一个场平面。

11.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于所述投射光学系统是用于将物平面（5）中的物场（4）成像为像平面（9）中的像场（8）的用于微光刻的投射物镜（16），所述投射物镜（16）包括

-多个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形状反射表面，

-至少一个在所述物平面（5）与所述像平面（9）之间的中间像平面（17），

-其中，所述投射物镜（16）的总长度（T）与物像位移（d_OIS）之间的比小于12。

12.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于所述投射物镜的总长度（T）与物像位移（d_OIS）之间的比小于5。