[发明专利]基于石墨烯的Y形弯曲波导无效
申请号: | 201210288499.1 | 申请日: | 2012-08-14 |
公开(公告)号: | CN102841405A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 陆卫兵;许红菊;朱薇 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G02B6/125 | 分类号: | G02B6/125;G02B6/122 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 汤志武 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 石墨 弯曲 波导 | ||
技术领域
本发明涉及一种基于石墨烯的Y形弯曲波导,尤其是此基于石墨烯的Y形弯曲波导,可以在弯曲的表面上传播表面等离子体极化波。
背景技术
表面等离子体极化波,能突破衍射极限,为器件微形化和高度集成化,实现纳米全光集成电路提供了可能。现今技术中器件的制造,由于制造条件的限制,加工后的电路板表面可能会有一些不平整,普通的基于金属的表面等离子体极化波波导在遇到弯曲等不平的平面时,由曲率导致的辐射损耗会产生,由于金属上支持的表面等离子体极化波的折射率比较小,局域性相对较弱,在散射损失了一部分动量后,此时的折射率很可能小于空气中的折射率,这时已经不能支持表面等离子体极化波的传输了,而金属要用在弯曲波导器件中,大多是通过在金属上设计光学变换结构来实现,光学变换的结构如图1所示。其制作复杂,加工困难。
发明内容
技术问题:本发明提供一种能够消除不平整对传输影响且能降低加工难度的基于石墨烯的Y形弯曲波导。
本发明采用如下技术方案:
一种基于石墨烯的Y形弯曲波导,包括硅衬底,在硅衬底上设有二氧化硅衬底,在二氧化硅衬底上铺有石墨烯层,所述石墨烯层由Y形石墨烯内区域和Y形石墨烯外区域组成,并且,Y形石墨烯内区域的化学势为0.8eV,Y形石墨烯外区域的化学势为0.4eV。
与现有技术比,本发明具有以下优点:
本发明使用石墨烯来设计Y形弯曲波导,现有技术中是使用金属来设计弯曲波导,由于金属上支持的表面等离子体极化波的折射率相对较小,局域性不是很好,一般都是通过在金属上设计光学变换结构,例如图1中在金属6的上面铺设介电常数,厚度不同的介质层7,8,9来实现,加工困难,不利于实际应用。而石墨烯具有很强的柔韧性和稳定性,其折射率可以通过化学掺杂的方式来调节,使得其上支持的表面等离子体极化波的局域性很强,不需要做任何光学变换结构也能很好的引导表面等离子体极化波沿着弯曲的表面传播。此发明,加工简便,易于实现,克服了加工过程中电路板的不平整对传输的影响,降低了加工的要求。
附图说明
图1是金属表面等离子体极化波弯曲波导上的光学变换结构的侧视图,6为金属,7,8,9分别为厚度,介电常数不同的介质层。
图2是本发明的结构侧视图,包括叠合在一起的三层结构,最下面的是硅基底,硅基底上铺二氧化硅衬底,二氧化硅衬底上铺石墨烯层。二氧化硅衬底上设有正弦形起伏表面,其中,此正弦曲线的半周期D为60nm,高度r为12nm。
图3是本发明的结构俯视图,Y形波导的尺寸a为40nm,b为140nm,L1为120nm,L2为100nm,L3为80nm,L4为30nm,θ为22.5°。区域4的石墨烯通过掺杂使得化学势μc为0.4eV(不可以传播表面等离子体极化波,对应的载流子浓度为1.2e13cm-2),区域5的石墨烯通过掺杂使得化学势μc为0.8eV(可以传播表面等离子体极化波,对应的载流子浓度为4.7e13cm-2)。
图4是在温度为300K,化学势为0.8eV时,石墨烯上支持的表面等离子体极化波的有效折射率的实部随频率的变化曲线。由此图可以看出,石墨烯上支持的表面等离子体极化波的有效折射率的实部在一个很宽的频带内都很大,即局域性很强。
图5是本发明的z方向磁场强度分布的仿真结果图,频率为160THz时,左端为入射端,右端为出射端,由图可见,表面等离子体极化波在弯曲的Y形石墨烯表面上很好的从左端传到了右端,并由一束波分成了两束。
具体实施方式:
一种基于石墨烯的Y形弯曲波导,包括硅衬底3,在硅衬底3上设有二氧化硅衬底2,在二氧化硅衬底2上铺有石墨烯层1,所述石墨烯层1由Y形石墨烯内区域4和Y形石墨烯外区域5组成,并且,Y形石墨烯内区域4的化学势为0.8eV(对应的载流子浓度为4.7e13cm-2),Y形石墨烯外区域5的化学势为0.4eV(对应的载流子浓度为1.2e13cm-2)。石墨烯的化学势可以通过化学掺杂的方式来实现,利用四氰代二甲基苯醌等分子吸附技术掺杂,可以使得石墨烯的载流子浓度达到1e14cm-2。
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