[发明专利]太阳能反射镜及其制备方法无效
申请号: | 201210288980.0 | 申请日: | 2012-08-12 |
公开(公告)号: | CN102809769A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 范多旺;王成龙;范多进;苗树翻 | 申请(专利权)人: | 兰州大成科技股份有限公司;兰州大成真空科技有限公司;常州大成绿色镀膜科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B5/08;C23C14/06;C23C14/35 |
代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 张真 |
地址: | 730070 *** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能 反射 及其 制备 方法 | ||
1.一种太阳能反射镜,包括有在玻璃基板上设有金属反射层,其特征在于在玻璃基板与金属反射层之间设有光学过渡层,在金属反射层上设有反射补偿金属过渡层;在反射补偿金属过渡层上设有保护层。
2.如权利要求1所述的太阳能反射镜,其特征在于所述的光学过渡层的材料为Si3N4或Al2O3或TixOy。
3.如权利要求1所述的太阳能反射镜,其特征在于所述的金属反射层的材料为银或铝。
4.如权利要求1所述的太阳能反射镜,其特征在于所述的反射补偿金属过渡层的材料为铝或铜;其厚度为120-150nm。
5.如权利要求2所述的太阳能反射镜,其特征在于所述的光学过渡层是Si3N4或Al2O3或TixOy的厚度为5-30nm。
6.如权利要求3所述的太阳能反射镜,其特征在于所述的金属反射层的厚度为80-150nm。
7.一种太阳能反射镜的制备方法,其特征在于步骤为:
(1)在真空环境下对玻璃基板镀膜面进行等离子清洗:将待镀玻璃基板放入真空室体,预抽真空,当室体真空度为10-4Pa后开始向真空室体通过质量流量计精确充如惰性气体,氮气或氩气且将室内压强维持在4~5Pa;开启轰击电源,在真空室体内的一对轰击极板间加500~2500V电压,电流为0.5~3.5A电流,产生稳定的辉光,产生辉光等离子流;在稳定的辉光放电的条件下清洗300~500s;
(2)在真空环境下Si3N4光学过渡层的制备;
将高纯硅作为靶材,当真空室体内真空度抽到2×10-4Pa后,向真空室体充入氩气和氮气的混合气体为450-520sccm:340-380sccm,当真空度达到0.5~5Pa时,启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜,电压:380V-420V,电流:45A-55A,镀膜2-10min,在玻璃基板表面形成5-30nm厚的Si3N4薄膜;
(3)在真空环境下金属银反射层制备:
将纯银作为靶材,当真空室体内真空度抽到2×10-4Pa后,向真空室体充入氩气,当真空度达到0.1~1Pa时,启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜,电压:460V-500V,电流:18A-22A,镀膜30~60s,在步骤(2)光学过渡层的表面形成80~150nm厚银反射层;
(4)铝反射补偿金属过渡层制备:
将纯铝作为靶材,当真空室体内真空度抽到2×10-4Pa后,向真空室体充入氩气,当真空度达到0.1~1Pa时,启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜,电压:460V-500V,电流:38A-42A,镀膜30-40s,在金属银反射层表面形成120-150nm厚金属铝层;
(5)喷淋50~60um厚保护油漆。
8.如权利要求7所述的太阳能反射镜的制备方法,其特征在于还包括有步骤(2)为Al2O3光学过渡层的制备:
将高纯铝作为靶材,当真空室体内真空度抽到2×10-4Pa后,向真空室体充入氩气和氧气的混合气体450-550sccm:340-380sccm,当真空度达到0.5~5Pa时,启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜,电压:460V-500V,电流:26A-34A,镀膜2-10min,在玻璃基板表面形成5-30nm厚的Al2O3薄膜。
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