[发明专利]一种Array板光刻胶的剥离方法

说明书

技术领域

本申请涉及LCD领域，更具体地说，涉及一种Array板光刻胶的剥离方法。

背景技术

LCD（Liquid-Crystal Display）液晶平板显示器近年来已经逐步替代CRT（Cathode Ray Tube）阴极射线管显示器成为主流，并且已经充分的普及。

特别是TFT-LCD（Thin-Film Transistor Liquid-Crystal Display）薄膜晶体管显示器目前迅速成为新世纪的主流产品。

TFT-LCD面板可视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶，上层的玻璃基板是与彩色滤光片(Color Filter)结合，而下层的玻璃则有薄膜晶体管镶嵌于上形成Array板。通过Array板的薄膜晶体管对像素电场的控制，从而控制液晶分子的偏转，从而控制光线的偏极性，再利用偏光片决定像素(Pixel)的明暗。此外，上层玻璃因与彩色滤光片贴合，形成每个画素各包含红蓝绿三颜色，这些发出红蓝绿色彩的画素便构成了面板上的影像画面。

Array板的制作过程采用光刻技术，最常用的就是5MASK工艺，每道工序都包括：清洗、成膜、涂布、预烘、曝光、显影、干湿刻、后烘、PR剥离等主要工序。

随着人们对FTF-LCD产品品质的要求提高，高PPI、广视角等高端产品应运而生，而这些高端产品对残留物、底层膜残留等的控制更加严格，轻微的残留物就可能导致功能缺陷。

然而在实际生产过程中，需要对光刻制程中出现问题的Array板产品进行返修，返修过程中需要将Array板表层的光刻胶剥离，现有技术中一般采用的是湿法光刻胶剥离的方法，直接在Array板的光刻胶表面喷淋光刻胶剥离液，光刻胶剥离液与光刻胶进行化学反应，进而除去光刻胶。但是，由于光刻胶图形的边沿区域的光刻胶比较薄，或是在曝光显影的步骤中，显影液不是很干净的时候容易在过孔处留下很薄的一层光刻胶，这层很薄的光刻胶在后烘步骤中容易过烘，导致返修时不易剥离干净，会残留下一些光刻胶。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种Array板光刻胶的剥离方法，能够在Array板进行返修时，彻底剥离掉Array板上的光刻胶。

为实现上述目的，本申请提供了如下技术方案：

一种Array板光刻胶的剥离方法，用于对Array板的光刻胶剥离返修，其特征在于，包括：

对所述Array板表面的光刻胶进行干法剥离，去除光刻胶的过烘部分；

在已经去除过烘部分的光刻胶上涂覆光刻胶剥离液，与所述已经去除过烘部分的光刻胶进行反应，将所述已经去除过烘部分的光刻胶从所述Array板上剥离。

优选的，上述的方法，对所述Array板表面的光刻胶进行干法剥离，去除光刻胶的过烘部分包括：

等离子态工艺气体中的活性离子与光刻胶进行化学反应，同时带电粒子对光刻胶进行轰击，去除光刻胶的过烘部分。

优选的，上述的方法，对所述Array板表面的光刻胶进行干法剥离，去除光刻胶的过烘部分包括：

等离子态工艺气体中的带电粒子对所述Array板表面的光刻胶进行物理轰击，去除光刻胶的过烘部分。

优选的，上述的方法，在已经去除过烘部分的光刻胶上涂覆光刻胶剥离液包括：

将光刻胶剥离液喷淋在已经除去过烘部分的光刻胶上。

优选的，上述的方法，在已经去除过烘部分的光刻胶上涂覆光刻胶剥离液包括：

将已经除去过烘部分光刻胶的Array板浸泡在光刻胶剥离液中。

优选的，上述的方法，还包括：

清洗已经彻底清除光刻胶的Array板。

通过以上方案可知，本申请公开了一种Array板光刻胶的剥离方法，用于对Array板的光刻胶剥离返修，包括：对所述Array板表面的光刻胶进行干法剥离，去除光刻胶的过烘部分；在已经去除过烘部分的光刻胶上涂覆光刻胶剥离液，与所述已经去除过烘部分的光刻胶进行反应，将所述已经去除过烘部分的光刻胶从所述Array板上剥离。在对Array板的光刻胶剥离返修时，采用本申请提供的一种Array板光刻胶的剥离方法，采用干法剥离，就能去除一层很薄的在光刻制程中的后烘步骤中过烘的光刻胶，在剩余的光刻胶上涂覆光刻胶剥离液，光刻胶剥离液与光刻胶进行反应，除去剩余的光刻胶，就能够彻底剥离掉Array板上的光刻胶。

附图说明