[发明专利]排土场基底坝构建工艺

权利要求书

1.一种排土场基底坝构建工艺，包括以下步骤：

1)在排土场范围内，垂直排土场坡度方向，修筑阶梯形基底坝，所述的基底坝是由坚硬的石块、混凝土砌筑而成，基底坝为等腰梯形，

2）在基底坝坝基处设置排水孔，在标高最底处的基底坝的排水孔处挖掘排水沟， 

3）在排水沟与蓄水池之间挖掘导水沟，其排水沟的出口与导水沟相连，导水沟的出口与蓄水池相连，排水沟水通过导水沟汇集于蓄水池。

2.根据权利要求1所述的排土场基底坝构建工艺，其特征在于所述的排水孔横断面为S1，排水沟横断面为S2，其S2= S1。

3.根据权利要求1所述的排土场基底坝构建工艺，其特征在于所述的导水沟横断面为S3， S3= S1。

4.根据权利要求1所述的排土场基底坝构建工艺，其特征在于所述的基底坝的标高从上到下依次增加。