[发明专利]灰阶掩膜版、阵列基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种灰阶掩膜版，其特征在于，包括：

掩膜版主体，所述掩膜版主体上具有驱动电路图案区域和像素显示图案区域，

所述驱动电路图案区域中包括第一源电极掩膜图案和第一漏电极掩膜图案，所述第一源电极掩膜图案和第一漏电极掩膜图案之间具有第一沟道区，所述第一沟道区内设有第一灰阶线条图案；

所述像素显示图案区域中包括第二源电极掩膜图案和第二漏电极掩膜图案，所述第二源电极掩膜图案和第二漏电极掩膜图案之间具有第二沟道区，所述第二沟道区内设有第二灰阶线条图案；

所述第一灰阶线条图案的宽度大于第二灰阶线条图案的宽度。

2.如权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于，所述驱动电路图案区域为栅极驱动电路图案区。

3.如权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于，所述第一灰阶线条图案的宽度比第二灰阶线条图案的宽度宽0.1~0.3μm。

4.如权利要求3所述的灰阶掩膜版，其特征在于，所述第一灰阶线条图案的宽度比第二灰阶线条图案的宽度宽0.2μm。

5.如权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于，所述第一灰阶线条图案为方波形状。

6.如权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于，所述第二灰阶线条图案为方波形状。

7.一种使用权利要求1-6任一项灰阶掩膜版制作的阵列基板，包含驱动电路区和像素显示区，其特征在于，所述驱动电路区的薄膜晶体管的半导体层具有均一厚度，且所述像素显示区的薄膜晶体管的半导体层具有均一厚度。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7所述的阵列基板。

9.一种阵列基板的制备方法，包括形成驱动电路区域和像素显示区域的薄膜晶体管的栅电极和栅绝缘层的步骤，形成驱动电路区域和像素显示区域的薄膜晶体管的源/漏电极和半导体层的步骤，形成像素显示区域的像素电极的步骤，其特征在于，所述驱动电路区域和像素显示区域的薄膜晶体管的源/漏电极和半导体层是使用权利要求1-6任一项所述的灰阶掩膜版通过一次掩膜工艺形成的。