[发明专利]具有热防护件的化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置具有反应室和基座，所述基座由基座支承轴支承在所述反应室中，所述化学气相沉积装置包括：

热防护件，所述热防护件用于阻隔从所述基座的下方的一部分或从所述基座支承轴辐射的辐射热。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，所述热防护件包括：

圆筒形的第一防护板；以及

第二防护板，所述第二防护板联接至所述第一防护板，所述第二防护板设置在所述基座的下方并且在所述第二防护板的中央部分处是开放的。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积装置，其中，所述基座支承轴以穿过所述第一防护板的方式设置在所述第一防护板的内部。

4.根据权利要求2或3所述的化学气相沉积装置，还包括：

辅助防护件，所述辅助防护件以与所述第一防护板间隔开的方式设置在所述第一防护板的下方，所述辅助防护件阻隔从所述基座的中央部分朝向所述反应室的底部辐射的热量。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，所述热防护件呈圆筒形状设置在所述基座支承轴的外侧。

6.根据权利要求5所述的化学气相沉积装置，其中，所述热防护件包括：

圆筒形的下部防护件；以及

上部防护件，所述上部防护件联接至所述下部防护件的顶部，所述下部防护件和所述上部防护件由不同的材料制成，所述下部防护件的传热系数低于所述上部防护件的传热系数。

7.根据权利要求6所述的化学气相沉积装置，还包括：

上部辐射热防护件，所述上部辐射热防护件呈环形地设置在所述基座的下方。

8.根据权利要求2或7所述的化学气相沉积装置，其中，所述反应室包括保护壳以保护所述基座的下方的元件，并且在所述保护壳的顶部上设置有顶板，所述顶板的中央部分是开放的，并且所述第二防护板或所述上部辐射热防护件保持在所述保护壳上或联接至所述保护壳。