[发明专利]一种用于浸入式仪表的测量通道自清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗装置，特别是一种用于浸入式仪表的测量通道自清洗装置。

背景技术

从国内已公开的仪表测量通道自动清洗装置来看，大多数采用了附加动力装置产生清洗作用的方式，对安装于测量敏感区的敏感元件进行机械刷洗（或同时配合以化学清洗剂），来清除测量敏感区上的干扰物沉积。具体实施方式包括：

气体射流（如中国实用新型专利CN202041498U《在线pH计测量电极自动清洗装置》）；

液体压力（如中国实用新型专利CN201844989U《一种具备自动冲洗功能的工业酸度计》）；

驱动机械转刷（如中国实用新型专利CN201997506U《一种自动清洗装置》）；

超声波振荡（如中国实用新型专利CN200920254135《水下光学测量分析仪的微型超声波清洗装置》）等。

上述自动清洗方式在仪表测量通道的清洗过程中需要消耗附加动力，且所需设备结构较为复杂。

在不使用附加动力的自动清洗装置方面，中国实用新型专利CN2772646Y《涡流自动清洗装置》给出了一种采用管道法兰上设置三个涡流发生体的挡板结构，利用挡板自身产生涡流，不使用任何动力设备，对在线成份分析仪的探头进行清洗，但由于挡板和涡流发生体增加了较大的阻力，使管道中流动介质压力损耗加大，需要显著加大管道内流动介质的压力，同样不利于节能。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术在仪表测量通道清洗过程中耗能较大、清洗装置结构复杂的问题，而提供一种新的浸入式仪表无源清洗系统结构。其特点是不使用任何动力设备，利用流动介质本身的流动压力差，对测量通道进行自动清洗；同时管道阻力小，不需显著加大流动介质的压力，有利于测量系统的节能。

本发明的技术方案是：浸入式仪表的测量通道设置于仪表内部，并在仪表外壳两侧开口，便于被测量的液态流体介质流入和流出。测量元件安装于测量通道中部的测量敏感区。测量通道剖面呈双向燕式结构，即测量通道在仪表外壳的两侧开口处具有最大内径，然后逐渐收窄于测量敏感区，在测量敏感区处内径最小。

浸入式仪表工作时，被测量的介质由于流动压力差在所述的仪表测量通道内单向流动，由安装于测量敏感区的敏感元件完成测量作用。由于液态流体介质的不可压缩性，其进入测量通道后随着通道内径的逐渐缩小，在测量敏感区达到最大流速；经过测量敏感区后，随着通道内径的逐渐增大，液态流体介质在测量通道的出口处恢复正常流速。以此方式，液态流体介质在测量敏感区产生冲刷力，对安装于测量敏感区的测量元件起到自清洗作用，且该清洗作用无需附加动力装置驱动。

本发明可用于对各种液态流体介质的浸入式仪表测量通道进行无源自清洗。

附图说明

图1为浸入式仪表测量通道自清洗装置结构示意图。

图2为自清洗装置的A—A剖视图。

具体实施方式

如图1所示，一种用于浸入式仪表的测量通道自清洗装置，由流动介质测量通道1、浸入式仪表外壳2和测量敏感区3组成。仪表外壳2全部浸没于被测量的液态流动介质内，测量通道1位于仪表外壳2的内部，并在仪表外壳2的两个侧面开口，分别作为液态流动介质的流入口4和流出口5。

测量通道1内壁具有双向梯形内部结构，即测量通道1的两端开口内径大于并逐渐收窄于其中部测量敏感区3内径，内径大小随测量通道轴向长度变化的函数关系与液态流体介质的物理性质有关。

液态流体介质由于流动压力差在测量通道1内单向流动，由安装于测量敏感区3的任意敏感元件完成测量作用。由于被测量介质的不可压缩性，流过测量敏感区3时流速最大，产生的冲刷力对测量敏感区3起到自清洗作用，且该清洗作用无需附加动力装置驱动。