[发明专利]显影装置、成像设备和处理盒

权利要求书

1.一种显影装置，包括：

显影剂承载元件，该显影剂承载元件在其表面上承载显影剂的同时可旋转；

具有旋转轴的旋转体；

壳体，该壳体包含供给到所述显影剂承载元件的表面上的显影剂，以容纳所述旋转体的至少一部分；

旋转齿轮，该旋转齿轮的旋转轴平行于所述旋转体的旋转轴，所述旋转齿轮设置在所述壳体的侧壁的外侧，以支撑所述旋转体的旋转轴的端部；以及

静止轴元件，该静止轴元件固定到所述壳体的侧壁上，以可旋转地支撑所述旋转齿轮，

所述静止轴元件的轴心与所述旋转体的旋转轴的轴心共线。

2.如权利要求1所述的显影装置，其中，所述旋转齿轮包括驱动输入齿轮，扭矩从外面提供到该驱动输入齿轮上，以至少旋转设置到所述显影装置上的旋转体。

3.如权利要求1所述的显影装置，还包括旋转轴支撑件，该旋转轴支撑件设置到所述静止轴元件的内侧端上，以可旋转地支撑所述旋转体的旋转轴的端部，

其中，所述静止轴元件的内侧端被暴露于形成在所述壳体的侧壁的内侧的空间。

4.如权利要求3所述的显影装置，还包括防止元件，该防止元件设置到所述静止轴元件的内侧端上，以防止形成在所述壳体的侧壁的内侧的空间中的显影剂接触所述静止轴元件的内侧端。

5.如权利要求4所述的显影装置，还包括轴承，该轴承可旋转地支撑所述旋转体的旋转轴的端部，

其中，所述轴承由导热率低于所述静止轴元件的材料形成，并且被成形为覆盖所述静止轴元件的内侧端的暴露于形成在壳体的侧壁的内侧的空间的部分。

6.如权利要求3所述的显影装置，还包括密封件，该密封件设置到所述静止轴元件上，以防止所述壳体的侧壁的内侧形成的空间中的显影剂到达所述旋转轴支撑件，

其中，所述密封件限制所述旋转体的旋转轴沿轴向运动。

7.一种成像设备，包括：

潜像承载元件；

充电器，该充电器充电所述潜像承载元件的表面；

潜像形成单元，该潜像形成单元在所述潜像承载元件的表面上形成潜像；以及

显影装置，该显影装置用显影剂显影所述潜像，

所述显影装置包括：

显影剂承载元件，该显影剂承载元件在其表面上承载显影剂的同

时可旋转；

具有旋转轴的旋转体；

壳体，该壳体包含供给到显影剂承载元件的表面上的显影剂，以容纳所述旋转体的至少一部分；

旋转齿轮，该旋转齿轮的旋转轴平行于所述旋转体的旋转轴，所述旋转齿轮设置在所述壳体的侧壁的外侧，以支撑所述旋转体的旋转轴的端部；以及

静止轴元件，该静止轴元件固定到所述壳体的侧壁上，以可旋转地支撑所述旋转齿轮，

所述静止轴元件的轴心与所述旋转体的旋转轴的轴心共线。

8.一种处理盒，该处理盒可拆卸地安装到成像设备上，包括：

潜像承载元件，该潜像承载元件承载潜像；以及

显影装置，该显影装置用显影剂显影形成在所述潜像承载元件上的潜像，

所述显影装置包括：

显影剂承载元件，该显影剂承载元件在其表面上承载显影剂的同时可旋转；

具有旋转轴的旋转体；

壳体，该壳体包含供给到显影剂承载元件的表面上的显影剂，以容纳所述旋转体的至少一部分；

旋转齿轮，该旋转齿轮的旋转轴平行于所述旋转体的旋转轴，所述旋转齿轮设置在所述壳体的侧壁的外侧，以支撑所述旋转体的旋转轴的端部；以及

静止轴元件，该静止轴元件固定到所述壳体的侧壁上，以可旋转地支撑所述旋转齿轮，

所述静止轴元件的轴心与所述旋转体的旋转轴的轴心共线，

所述潜像承载元件和所述显影装置构成可拆卸地安装到成像设备中的单个整体单元。