[发明专利]配向膜的涂布方法有效

专利信息
申请号: 201210299010.0 申请日: 2012-08-22
公开(公告)号: CN102809851A 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 朱美娜 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 欧阳启明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及显示面板生产技术领域,特别是涉及一种配向膜的涂布方法。

【背景技术】

随着液晶显示技术的不断发展,对液晶显示设备质量的要求越来越高。

请参阅图1,图1为现有技术中薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor,TFT)基板的俯视结构示意图。

所述TFT基板包括玻璃基底10,所述玻璃基底10形成有框胶涂布区11和配向液涂布区12,所述配向液涂布区12覆盖显示区(图未绘出)。所述框胶涂布区11用于涂布框胶,而所述配向液涂布区12用于涂布配向液形成配向膜(PI)。

现有技术基本是通过配向膜喷印技术(inkjet)印刷形成所述配向膜,首先在所述配向液涂布区12喷注配向液,之后将配向液固化形成配向膜。但是由于在喷注配向液后,配向液的液滴受其重力影响会扩散至所述配向液涂布区12之外,譬如扩散至所述框胶涂布区11,从而导致形成的配向膜延伸至所述配向液涂布区12之外,譬如配向膜的边界呈波浪状或者延伸至所述框胶涂布区11,进而影响所述框胶涂布区11的框胶的粘着力,而且会影响显示区的显示效果。

综上,在所述配向液涂布区12喷注配向液形成配向膜的过程中,由于配向液的扩散作用,影响配向膜的精度,尤其是配向膜边界的精度,进而影响到与所述配向液涂布区相邻的其它区域。

【发明内容】

本发明的一个目的在于提供一种配向膜的涂布方法,旨在解决现有技术中在喷注配向液形成配向膜的过程中,由于配向液的扩散作用,影响配向膜的精度,尤其是配向膜边界的精度,进而影响到与所述配向液涂布区相邻的其它区域的技术问题。

为解决上述技术问题,本发明构造了一种配向膜的涂布方法,包括以下步骤:

提供一基板,具有一基底,在所述基底上形成有一配向液涂布区;

在所述配向液涂布区的周围涂布形成一阻挡结构;

在所述配向液涂布区涂布配向液,其中所述阻挡结构阻挡所述配向液扩散至所述配向液涂布区之外;

将所述配向液固化形成一配向膜。

在本发明一实施例中:所述阻挡结构由可硬化成型的高分子材料形成。

在本发明一实施例中:所述高分子材料为单一高分子材料或混合高分子材料。

在本发明一实施例中:所述高分子材料为α-氨基丙烯酸乙酯。

在本发明一实施例中:在所述基底上还形成有一框胶涂布区,所述框胶涂布区环绕所述配向液涂布区,并在所述框胶涂布区与所述配向液涂布区之间形成有一间隔;所述阻挡结构形成于所述配向液涂布区和所述框胶涂布区的间隔内,并且所述阻挡结构紧密地围绕着所述配向液涂布区。

在本发明一实施例中:将所述配向液固化形成配向膜的步骤之后,所述方法还包括以下步骤:

将所述阻挡结构移除。

在本发明一实施例中:将所述阻挡结构移除的步骤具体包括:

对所述阻挡结构进行加热,以使得所述阻挡结构熔化并移除。

在本发明一实施例中:将所述阻挡结构移除的步骤具体包括:

在所述阻挡结构上喷洒溶剂,以使得所述阻挡结构溶解于所述溶剂并移除。

在本发明一实施例中:所述阻挡结构相对所述基底凸起,所述阻挡结构的横截面垂直于所述阻挡结构的长度方向。

在本发明一实施例中:所述阻挡结构的横截面为三角形或者为方形。

相对于现有技术,本发明提供的配向膜的涂布方法是首先在基底的配向液涂布区的周围涂布形成一阻挡结构,之后在所述配向液涂布区涂布配向液,其中所述阻挡结构阻挡所述配向液扩散出所述配向液涂布区,最后将所述配向液固化形成配向膜。显然,本发明可通过阻挡结构阻止配向液扩散至所述配向液涂布区之外,进而控制配向膜的位置精度,尤其是控制配向膜边界的精度,保证形成的配向膜不会对其它区域造成影响。

为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:

【附图说明】

图1为现有技术中TFT基板的俯视结构示意图;

图2为本发明配向膜的涂布方法的较佳实施例的流程示意图;

图3为本发明配向膜的涂布方法中在涂布配向膜之前所提供的TFT基板结构示意图;

图4为本发明配向膜的涂布方法中在TFT基板上形成所述阻挡结构的示意图;

图5为本发明配向膜的涂布方法中所形成的阻挡结构的一较佳实施例横截面示意图;

图6为本发明配向膜的涂布方法中所形成的阻挡结构的另一较佳实施例横截面示意图;

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