[发明专利]可编程晶体管阵列设计方法有效

专利信息
申请号: 201210299773.5 申请日: 2010-01-21
公开(公告)号: CN102820293A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 罗明健;吴国雄 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/118;G06F17/50
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 可编程 晶体管 阵列 设计 方法
【说明书】:

本申请是分案申请,其原案申请的申请号为201010001097.X、申请日为2010年1月21号、发明名称为“可编程晶体管阵列设计方法”。

本申请要求于2009年1月22日提交的标题为“Programmable Transistor Array Design Methodology”的美国临时专利申请No.61/146,564的优先权,其申请结合与此作为参考。

技术领域

本发明总的来说涉及集成电路,更具体地,涉及集成电路的设计方法。

背景技术

集成电路的设计通常包括若干阶段。在集成电路的大规模制造之前,通常制造原型以验证集成电路的设计。现场可编程门阵列(FPGA)和单元设计(Cell based Design,CBD)是多数通用的设计方法。

图1示出了FPGA设计,其包括以阵列方式设置的多个逻辑单元,其中内置有预定的布线(未示出)。FPGA可通过反熔丝开关箱(未示出)进行编程,使得具有相同FPGA设计的芯片可用于实现具有不同功能的不同电路。诸如嵌入式存储器和处理器的附加功能模块可以被安装在FPGA芯片中。由于一个FPGA设计可以被多种应用共享,所以设计成本被多种应用所分担,因此相对较低。此外,由于可使用现有FPGA而无需从擦除开始的事实,设计周期缩短。然而,受限于所得到电路的低性能,FPGA只适合于以高单位成本进行少量生产,并且通常仅在原型设计中使用。

另一方面,如图2所示,CBD方法通常用于特定用途集成电路(ASIC)设计。CBD设计可采用标准单元以实现集成电路,并且标准单元通常被配置到行。然而,标准单元的放置根据应用的不同而不同,并且一行可包括不同的标准单元。通过互连的标准单元来实现逻辑功能。因此,作为随机放置标准单元的结果,布线也不是固定的。诸如嵌入式存储器和模拟宏指令的自定义宏指令可以包括在CBD中,并且被随机放置在各个芯片中。由于用户化设计,采用CBD方法设计的电路通常享有较高的性能。

CBD方法还具有一些缺点。当使用45nm和以下的技术形成集成电路时,基于传统设计规则的所有CBD设计都开始出现严重的处理变化,其甚至可以达到约30%。这引起生产量的显著降低。另一方面,由于所有的基底层(包括有源区域和栅电极的层)和金属层都被制定,所以使用CBD方法的设计成本也很高。例如,设计会花费大约五十万美元以上。设计周期时间也很长,如果采用先进的纳米技术,则通常需要12周以上。

因此,本领域需要可以将FPGA的灵活性和低成本的有利特征以及CBD的高性能组合的设计方法。

发明内容

根据本发明的一个方面,一种设计集成电路的方法包括提供彼此相同的第一芯片和第二芯片。第一芯片和第二芯片中的每一个都包括基底层,该基底层包括基本晶体管单元(BTU)和逻辑晶体管单元(LTU)阵列。

BTU进一步被划分为PMOS晶体管单元(PTU)、NMOS晶体管单元(NTU)和虚拟晶体管单元(DTU)。PTU和NTU都利用常规布局架构进行限定,将偶数的多晶硅(polys)放置在有源区域中,并且两个虚拟多晶硅与有源区域相邻并处于场氧化区域中。可以从有源区域的任一侧来存取多晶硅。此外,可以分别组成PTU和NTU或者将它们组合在一起来创建CMOS逻辑。

LTU阵列包括彼此相同并以行和列进行配置的LTU。该方法还包括:连接第一芯片的基底层以形成第一应用芯片;以及连接第二芯片的基底层以形成不同于第一应用芯片的第二应用芯片。

其中,LTU中的每一个都包括多路复用器。

其中,LTU中的每一个还包括反相器以及从NAND门和NOR门中选择的门。

其中,连接第一芯片的基底层的步骤包括:使用金属层1(M1)以将第一芯片的LTU阵列中的不同LTU修改为不同的逻辑门组合。

其中,连接第一芯片的基底层的步骤进一步包括:使用金属层2(M1)以将第一芯片的LTU阵列中的不同LTU修改为不同的逻辑功能单元。

其中,不同的逻辑功能单元是从基本由XOR门、XNOR门、加法器、锁存器和触发器组成的组中所选择的。

该方法还可以包括:将第一外部功能模块附接至第一芯片。

该方法还可以包括:将第二外部功能模块附接至第二芯片,其中,第二外部功能模块与第一外部功能模块不同。

其中,LTU中的所有PMOS晶体管具有相同布局,并且LTU中的所有NMOS晶体管具有附加的相同布局。

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