[发明专利]高阻抗材料以及包括该材料的显示基板黑矩阵和液晶显示装置

权利要求书

1.一种高阻抗材料，其特征在于，其由以下重量百分含量的组分组成：10％～30％的粘合树脂，20％～50％的遮光剂，30％～65％的溶剂，以及0.03％～0.2％的粘结性改良剂。

2.根据权利要求1所述的高阻抗材料，其特征在于，其由以下重量百分含量的组分组成：12％～25％的粘合树脂，30％～50％的遮光剂，30％～55％的溶剂，以及0.1％～0.2％的粘结性改良剂。

3.根据权利要求1所述的高阻抗材料，其特征在于，其由以下重量百分含量的组分组成：20.88％的粘合树脂，49％的遮光剂，30％的溶剂，以及0.12％的粘结性改良剂。

4.根据权利要求1～3任意一项所述的高阻抗材料，其特征在于，所述粘合树脂为丙烯酸树脂或聚酰亚胺树脂中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的高阻抗材料，其特征在于，所述丙烯酸树脂的酸值为70～150mgKOH/g，分子量为2000～100000的丙烯酸系聚合物。

6.根据权利要求5所述的高阻抗材料，其特征在于，所述丙烯酸树脂为二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯或具有芴环的丙烯酸酯其中一个或其混合物，其中，以二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯或季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯中任意一种与具有芴环的丙烯酸酯进行混合，二者的用量比为6:4至9：1。

7.根据权利要求4所述的高阻抗材料，其特征在于，所述聚酰亚胺树脂采用芳香族系的二胺和/或酸二酐作为聚酰亚胺前体进行酰亚胺化得到。

8.根据权利要求1～3任意一项所述的高阻抗材料，其特征在于，所述遮光剂包括炭黑、钛黑或金属氧化物中的一种或多种。

9.根据权利要求8所述的高阻抗材料，其特征在于，所述遮光剂 为钛黑、或者炭黑和钛黑的混合物；其中，炭黑和钛黑混合时，炭黑的加入量为钛黑重量的5～20％。

10.根据权利要求1～3任意一项所述的高阻抗材料，其特征在于，所述溶剂包括丙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇单甲醚乙酸酯、1，2-丙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇二乙醚、乙二醇二乙酯、乙二醇丁醚乙酸酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、环己酮、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或多种。

11.根据权利要求1～3任意一项所述的高阻抗材料，其特征在于，所述粘结性改良剂为硅烷偶联剂或钛偶联剂。

12.根据权利要求11所述的高阻抗材料，其特征在于，所述粘结性改良剂包括双-3-（氨基丙基）四甲基硅氧烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷或γ-巯丙基三乙氧基硅烷中的一种或多种。

13.制备权利要求1-12任意一项所述高阻抗材料的方法，其特征在于，将所述遮光剂、所述粘合树脂分散在所述溶剂中制作成分散液，再将所述分散液与粘结性改良剂进行混合，制成所述高阻抗材料。

14.一种黑矩阵，其特征在于，所述黑矩阵的材料包括权利要求1-12任意一项所述的高阻抗材料。

15.一种液晶显示装置，所述液晶显示装置的显示基板上包含权利要求14所述的黑矩阵。