[发明专利]光存储防伪元件、制造方法、应用以及用于制造过程的光学元件有效
申请号: | 201210303520.0 | 申请日: | 2012-08-23 |
公开(公告)号: | CN103625153A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 曹瑜;黄小义;李晓伟;李万里;李新宇;王景明 | 申请(专利权)人: | 中国人民银行印制科学技术研究所;中国印钞造币总公司 |
主分类号: | B42D25/29 | 分类号: | B42D25/29;B42D25/30;B42D25/36;B42D25/378;G02B27/10 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 张建纲 |
地址: | 100070 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 存储 防伪 元件 制造 方法 应用 以及 用于 过程 光学 | ||
1.光存储防伪元件,其特征在于:至少包括图案层,所述图案层具有偶氮聚合物,所述偶氮聚合物至少包含一种偶氮苯生色团,在所述图案层的表面具有连续或者不连续的凹凸结构,在所述凹凸结构内写入可擦除、可读写改变、可机读识别的光学信息。
2.根据权利要求1所述的光存储防伪元件,其特征在于:所述凹凸结构为波峰和波谷结构。
3.根据权利要求2所述的光存储防伪元件,其特征在于:所述波峰到所述波谷的垂直距离为10-100nm。
4.根据权利要求1或2或3所述的光存储防伪元件,其特征在于:所述偶氮聚合物的通式为:
其中,R为-NH2、-COOH、-NO2、-HSO3或-CN,
R’为
n=4-30;或
m=5-30;或
x=4-15,y=5-20;或
z=5-30。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的光存储防伪元件,其特征在于:所述图案层由防伪油墨制成,所述防伪油墨包含以下重量百分比的组分:
偶氮聚合物10-50%
连接料20-60%
溶剂2-20%
填料5-10%
助剂1-5%。
6.根据权利要求5所述的光存储防伪元件,其特征在于:所述防伪油墨包含以下重量百分比的组分:
所述偶氮聚合物的结构式为
所述偶氮聚合物的含量为50%;
所述连接料为酚醛树脂,所述酚醛树脂的含量为20%;
所述溶剂为乙醇,所述乙醇的含量为15%;
所述填料为碳酸钙,所述碳酸钙的含量为10%;
所述助剂为表面活性剂,所述表面活性剂的含量为5%。
7.根据权利要求5或6所述的光存储防伪元件,其特征在于:所述防伪油墨为丝网油墨、胶印油墨、雕刻凹印油墨、照相凹版油墨或凸版油墨。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的光存储防伪元件,其特征在于:还包括基层,所述基层设置于所述图案层的下方。
9.权利要求1-8任一所述的光存储防伪元件的制作方法,其特征在于:利用光源对具有偶氮聚合物的图案层的表面进行照射,使所述图案层的表面形成连续或者不连续的凹凸结构,并在形成凹凸结构的同时,将光学信息写入所述图案层中。
10.根据权利要求9所述的光存储防伪元件的制作方法,其特征在于:采用紫外光源或波长为400-600nm的激光光源对所述图案层进行照射。
11.根据权利要求9或10所述的光存储防伪元件的制作方法,其特征在于:在采用所述光源对所述图案层的表面进行照射前,对所述光源进行先分束再扩束或先扩束再分束的光学处理。
12.根据权利要求11所述的光存储防伪元件的制作方法,其特征在于:在对所述光源进行扩束光学处理和分束光学处理之间,还对所述光源进行空间滤波、切趾处理。
13.根据权利要求9-12任一项所述的光存储防伪元件的制作方法,其特征在于:在采用所述光源对所述图案层的表面进行照射前,先对所述光源进行分束光学处理,所述光源经分束光学处理后分为第一光束和第二光束;
所述第一光束经第一反射镜反射后依次经显微物镜的扩束处理、小孔光阑的空间滤波、可变光阑的切趾、凸透镜扩束处理后,经掩膜板投射到图案层上;
所述第二光束经反射镜反射后依次经显微物镜的扩束处理、小孔光阑的空间滤波、可变光阑的切趾、凸透镜扩束处理后投射到图案层上。
14.一种在制作光存储防伪元件中用于写入光学信息的光学元件,包括光源储备器,用于提供对所述图案层的表面进行照射的光源;
光开关,与所述光源储备器连接,用于控制所述光源储备器的开/关;
其特征在于:
还包括沿着所述光源的投射路径依次设置的
分束装置,用于对所述光源进行分束处理;
反射镜组件,用于对经过所述分束装置分束的所述光源进行反射;
掩模板,存储待写入到所述图案层内的可擦除、可读写改变、可机读识别的光学信息。
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