[发明专利]一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品

权利要求书

1.一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替叠加的至少三个介质层和至少两个红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，交替叠加的膜层的最上层为介质层，其特征在于：位于最上层的上介质层包括：1)第二介质膜，选自ZrO₂和ZrOxNy（0<y<x<2）中的至少一种；2)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮化物中的至少一种, 或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮氧化物中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射镀膜玻璃包括两个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板、第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、上介质层。

3.根据权利要求1所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射镀膜玻璃包括三个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板、第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、第三介质层、第三红外反射层、上介质层。

4.根据权利要求1所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述上介质层还包括沉积在所述第二介质膜之下的第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述上介质层的第二介质膜的几何厚度为5～40nm；所述上介质层的第三介质膜的几何厚度为5～100nm。

6.根据权利要求1所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述红外反射层为银层或含银的合金层，膜层的几何厚度为7～20nm。

7.根据权利要求1所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射镀膜玻璃至少有一个红外反射层之上在沉积其他膜层之前沉积有阻隔层，所述阻隔层的材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种，所述阻隔层的几何厚度为0.5～10nm。

8.根据权利要求2或3所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第一介质层的几何厚度为10～50nm；第二介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第二介质层的几何厚度为40～100nm。

9.根据权利要求3所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第三介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第三介质层的几何厚度为40～100nm。

10.一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和所述两块玻璃之间的夹层聚合物，其特征在于：两块玻璃中至少一块选自权利要求1～9任一所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，所述高红外反射的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。