[发明专利]接近曝光装置、其基板定位方法及显示用面板基板的制法

说明书

技术领域

本发明涉及一种在液晶显示器(display)装置等的显示用面板基板的制造中，使用接近(proximity)方式来进行基板曝光的接近曝光装置、接近曝光装置的基板定位方法以及使用这些装置和方法的显示用面板(panel)基板的制造方法，特别是涉及一种通过移动平台(stage)来使支撑基板的夹盘(chuck)朝XY方向移动以及朝θ方向旋转以进行曝光时的基板定位的接近曝光装置、接近曝光装置的基板定位方法以及使用这些装置和方法的显示用面板基板的制造方法。

背景技术

用作显示用面板的液晶显示器装置的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板或彩色滤光器(color filter)基板、等离子体(plasma)显示器面板用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等的制造是使用曝光装置，通过光刻(photolithography)技术在基板上形成图案(pattern)而进行。作为曝光装置，有使用透镜(lens)或镜子来将光罩(mask)的图案投影到基板上的投影(projection)方式、以及在光罩与基板之间设置微小的间隙(接近间隙(proximity gap))而将光罩的图案转印到基板上的接近方式。与投影方式相比，接近方式的图案析象性能差，但是照射光学系统的结构简单，且处理能力高，适合于量产用途。

近年来，在显示用面板的各种基板的制造中，为了应对大型化以及尺寸的多样化，须准备相对较大的基板，并根据显示用面板的尺寸来从一片基板中制造出一片或多片显示用面板基板。此时，对于接近方式而言，如果要统一曝光基板的一面，则需要与基板相同大小的光罩，从而导致昂贵的光罩成本(cost)进一步增大。因此，使用相对于基板较小的光罩，通过移动平台来使基板朝向XY方向步进移动，将基板的一面分成多次照射(shot)来进行曝光的方式成为主流。

在接近曝光装置中，为了精度良好地进行图案的烧附，必须精度良好地进行曝光时的基板定位。进行基板定位的移动平台具备朝向X方向移动的X平台、朝向Y方向移动的Y平台以及朝向θ方向旋转的θ平台，搭载支撑基板的夹盘以朝向XY方向移动以及朝向θ方向旋转。专利文献1以及专利文献2中公开了下述技术，即：在定位基板时，使用激光(laser)测长系统来检测移动平台在XY方向上的位置，而且使用多个激光位移计来检测夹盘在θ方向上的斜率。

先前技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2008-298906号公报

专利文献2：日本专利特开2009-31639号公报

发明内容

专利文献1以及专利文献2所记载的技术中，在夹盘上安装条状镜(bar mirror)，通过设在X平台上的多个激光位移计而在多处部位测定条状镜的位移，以检测夹盘在θ方向上的斜率。因此，需要专用的条状镜，但该条状镜必须高精度地将表面加工成平坦，因此价格非常高昂，需要耗费巨大的费用。

而且，专利文献1以及专利文献2所记载的技术中，在X平台上设有激光位移计，因此当通过Y平台来使夹盘朝向Y方向移动时，条状镜的位置相对于激光位移计而发生变化。因此，在测定结果中有可能包含因条状镜的平坦度造成的误差。

与此相对，如果在Y平台上设置多个激光位移计，并使多个激光位移计与夹盘一同朝向XY方向移动，则由各激光位移计所测定的夹盘的位移将不会因夹盘的移动而发生变动。但此时，移动Y平台时，在搭载有Y平台的导轨(guide)上因滑动阻力而产生大量的热，该热传递至Y平台而导致Y平台产生因热变形造成的形变，设在Y平台上的各激光位移计的设置状态发生变化，从而在夹盘位移的测定结果中也有可能产生误差。另一方面，如果取代在Y平台上设置多个激光位移计的做法，而在夹盘上设置多个激光位移计，并在Y平台上安装条状镜，则当Y平台产生因热变形造成的形变时，条状镜的设置状态会发生变化，从而导致条状镜产生θ方向的位置偏移，这样有可能无法准确地检测夹盘在θ方向上的斜率。

如专利文献1以及专利文献2所记载的，当使用多个激光位移计来检测夹盘在θ方向上的斜率时，多个激光位移计设置得越远，则越能够精度良好地检测夹盘在θ方向上的斜率。但是，激光位移计的输出特性缺乏直线性，如果加宽测定范围，则测定误差将变大。在专利文献1以及专利文献2所记载的技术中，在夹盘向θ方向倾斜的状态下，若通过Y平台使夹盘朝Y方向移动，则从各激光位移计到条状镜为止的距离会发生变动，因此若使多个激光位移计设置得更远，则激光位移计的测定范围将变广，从而测定误差有可能变大。