[发明专利]反向聚焦显微成像结构及方法有效

专利信息
申请号: 201210308029.7 申请日: 2012-08-27
公开(公告)号: CN103584834A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 孙庆成;余业纬;林哲巨;陈思妤 申请(专利权)人: 中央大学
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾桃*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 反向 聚焦 显微 成像 结构 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种反向聚焦显微成像结构及方法,特别是涉及一种应用于医疗领域进行人体组织探测的反向聚焦显微成像结构及方法。

背景技术

图1为现有习知的一种生医检测成像结构图。其为现今生医组织成像设备提高成像分辨率的常用方法。如图1所示,其成像方式主要是局限在以探测光穿透生医组织来进行探测或激发预先注射入待测物体中的荧光物质。

该图的右方是以激光源提供同调光束,此同调光束经过分光镜后,形成两束探测光,即探测光A及探测光B,探测光A再经由分光镜反射后以物镜O1聚焦至待测物体内部焦点,探测光B则由反射镜反射至待测物体的另一边并由另一物镜O2聚焦至待测物体内部的同一焦点位置。而待测物体反射及散射的信号光则由两物镜分别收集至两感测器做后续信号处理。

在实际应用上图1的方法需在待测物体两侧照射探测光,这种实施方式的确也可以达到收集信号并成像的效果,但其最显著的问题是其受到待测物体厚度与待测物体部位的干扰影响甚大,一旦待测物体或待测部位的体积过于庞大或位于狭小弯曲位置,探测光欲从两面照射便产生困难,有时甚至无法做到。

由此可见,上述现有的生医检测成像结构在结构上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般制造方法又没有适切的方法能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新的生医检测成像结构及方法,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。

发明内容

本发明的目的在于,克服现有的生医检测成像结构存在的缺陷,而提供一种能达到对待测的生医组织进行单边探测并提高成像的纵向分辨率的反向聚焦显微成像结构。

本发明的另一目的,在于提供一种反向聚焦的显微成像方法。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的反向聚焦的显微成像结构,其包括:第一分光镜,具有第一输入端、第一导光端及第一输出端;物镜,设置于该第一导光端的光路径上;以及相位共轭模块,设置于该第一输出端的光路径上。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的显微成像结构,其中该相位共轭模块为相位共轭反射镜。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步设置有空间光调制器。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步设置有衰减器。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步设置有透镜。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步串设有空间光调制器及衰减器。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步串设有电光调制器及衰减器。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步串设有空间光调制器、电光调制器及衰减器。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步串设有空间光调制器、电光调制器、衰减器及透镜。

前述的显微成像结构,其中该物镜接收的反射光路径上进一步设有第二分光镜,又该第二分光镜的输出光路径上设有影像检测系统。

前述的显微成像结构,其中该相位共轭模块包括:第三分光镜,具有第二导光端,耦合于该第一输出端、第二输入端,其输入光路径上设有空间光调制器、第三输入端及第二输出端;影像感测器,设置于该第二输出端的光路径上;以及光信号处理系统,用以输出控制信号至该空间光调制器,又读取该影像感测器的输出信号。

前述的显微成像结构,其中该第一输入端的光路径上进一步串设有该空间光调制器、电光调制器及衰减器。

本发明的目的及解决其技术问题另外还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的反向聚焦的显微成像方法,其包括下列步骤:将探测光聚焦至生医组织内部,其是经由物镜将探测光聚焦于生医组织内部进行照射;收取生医组织内散射与反射的光线,其是利用物镜收取探测光在生医组织内散射与反射的光线当成接收的信号光;利用PCM机制得到共轭信号光,其是利用本发明的相位共轭机制得到与原信号光相位共轭的共轭信号光,而此道共轭信号光为生医组织内部射出的聚焦光;以及引入原信号光并调整其光强与共轭信号光形成高明析度的干涉条纹,其是引入原信号光并调整其光束强度后,与共轭信号光形成高明析度的干涉条纹。

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