[发明专利]从硼粉末除去污染物的方法

说明书

发明背景。

发明领域

本文公开的主题涉及从硼粉末除去污染物。

现有技术的讨论

硼粉末在众多应用中用作硼涂层的主要组分。这种应用包括但不限于用于中子检测的硼涂层、用于模铸模具的磨损保护、用于生物医学移植物的改进的耐磨性等。这些应用中的一些受硼粉末内的污染物不利地影响，因为这些污染物可对硼涂层应用有害。

被污染的硼粉末可包括来自各种来源的有机污染物。例如，已发现喷射研磨的硼粉末对来自用于研磨过程的空气供应的污染敏感。具体地，当压缩空气用于操作喷射磨机时，硼粉末污染物可包括来自空气压缩机的润滑油。该污染可导致涂层缺陷例如非均匀的涂层和导致劣化的涂层性质的气体污染。其它实例污染物为来自喷射磨机的聚合衬里材料、用于将聚合衬里材料附着于喷射磨机内壁的粘合材料以及来自喷射磨机内壁的金属颗粒。

硼粉末为相对昂贵的材料，这继而使得被污染的硼粉末和涂布的商品二者在制造过程中是代价高的过失。回收被污染的硼粉末的一些先前的方法包括使用己烷、二氯甲烷和乙二醇漂洗粉末，各自与过滤器和/或离心机组合。因此，需要从硼粉末颗粒的表面除去污染物的改进的设备和方法。

发明内容

以下呈现本发明的简化的概述，以提供对本发明的一些实例方面的基本理解。该概述不是本发明的广泛的综述。此外，该概述不旨在确定本发明的关键要素也不描述本发明的范围。该概述的唯一目的是以简化的形式呈现本发明的一些观念，作为后面呈现的更详细描述的前序。

根据一方面，本发明提供从被污染的硼粉末除去污染物的方法。所述方法包括提供被污染的硼粉末，所述硼粉末为与有机污染物共混(comingle)的。所述方法还包括将所述被污染的硼粉末和与之共混的污染物放置在惰性容器上。所述方法包括将所述惰性容器、被污染的硼粉末以及与之共混的污染物放置在封闭的空间内。在所述封闭的空间中提供热源。所述方法还包括将所述被污染的硼粉末和与之共混的污染物加热至升高的温度。所述方法包括改变所述污染物，以降低与所述硼粉末共混的有机污染物的量.

根据另一方面，本发明提供从被污染的硼粉末除去污染物的方法。所述方法包括提供被污染的硼粉末，所述硼粉末为与有机污染物共混的。所述方法还包括将所述被污染的硼粉末和与之共混的污染物放置在惰性容器上。所述方法包括将所述惰性容器、被污染的硼粉末以及与之共混的污染物放置在封闭的空间内。在所述封闭的空间中提供热源。所述方法还包括将所述被污染的硼粉末和与之共混的污染物加热至升高的温度。所述方法包括改变所述污染物，使得在加工周期之后在所述硼粉末中的有机污染物的量为不大于约0.1重量%的可溶性残余物。

附图说明

在参考附图阅读以下描述后，本发明的前述和其它方面对于本发明相关领域技术人员将变得显而易见，其中：

图1为根据本发明的一方面的一个实例加工系统的实例炉的示意性横截面图；

图2为根据本发明的一方面从硼粉末除去有机污染物的一个实例方法的顶层(top level)流程图；和

图3为根据本发明的一方面从硼粉末除去有机污染物的一个实例方法的顶层流程图。

具体实施方案

在附图中描述和说明了结合本发明的一个或多个方面的实例实施方案。这些举例说明的实例不旨在限制本发明。例如，本发明的一个或多个方面可用于其它实施方案和甚至其它类型的装置。此外，本文使用的某些术语仅为了方便，并且不应看做是对本发明的限制。另外，在附图中，相同的附图标记用于指定相同的元件。

用于从硼粉末12除去污染物的实例加工系统10主要示于图1。在一个具体实例中，加工系统10用于从硼粉末12除去有机污染物。应理解的是，术语有机为宽泛的类别。在一部分中，该类别包括含有碳组分的材料。还应理解的是，图1仅显示可能的结构/构型/等的一个实例，并且在本发明的范围内预期其它实例。