[发明专利]共模扼流线圈及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210313755.8 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN102982965A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 北村未步;工藤敬实;山本笃史;中村彰宏 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01F17/00 分类号: H01F17/00;H01F41/00;C04B35/26
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 共模扼 流线 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种共模扼流线圈,是在第1磁性层上层叠有非磁性层和第2磁性层,在该非磁性层中包含2个对置的导体线圈的共模扼流线圈,其中,

非磁性层由烧结玻璃陶瓷构成,

导体线圈由含铜导体构成,

第1磁性层和第2磁性层的至少一方由包含Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuO的烧结铁素体材料构成,

该烧结铁素体材料中,

CuO换算含量为5mol%以下,以及

Fe2O3换算含量为25mol%~47mol%并且Mn2O3换算含量为1mol%以上且低于7.5mol%,或Fe2O3换算含量在35mol%~45mol%且Mn2O3换算含量为7.5mol%~10mol%。

2.根据权利要求1所述的共模扼流线圈,其中,第1磁性层与第2磁性层穿过配置于非磁性层中的2个导体线圈的线圈内部地进行连接。

3.一种共模扼流线圈的制造方法,是在第1磁性层上层叠有非磁性层和第2磁性层,在该非磁性层中包含2个对置的导体线圈的共模扼流线圈的制造方法,包括:

由含铜导体形成所述导体线圈,

在含铜导体的存在下,在Cu-Cu2O平衡氧分压以下的氧分压下对玻璃陶瓷进行煅烧,从而至少部分形成所述非磁性层,

使用如下的铁素体材料,在含铜导体的存在下,在Cu-Cu2O平衡氧分压以下的氧分压下对该铁素体材料进行煅烧,由此形成所述第2磁性层,所述铁素体材料包含Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuO,其中,

CuO含量为5mol%以下,以及

Fe2O3含量为25mol%~47mol%且Mn2O3含量为1mol%以上且低于7.5mol%,或Fe2O3含量为35mol%~45mol%且Mn2O3含量为7.5mol%~10mol%。

4.根据权利要求3所述的共模扼流线圈的制造方法,其中,作为所述第1磁性层使用烧结铁素体材料。

5.根据权利要求3所述的共模扼流线圈的制造方法,还包括:

使用如下的铁素体材料,在含铜导体的存在下,在Cu-Cu2O平衡氧分压以下的氧分压下对该铁素体材料进行煅烧,从而形成所述第1磁性层,所述铁素体材料包含Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuO,其中,

CuO含量为5mol%以下,以及

Fe2O3含量为25mol%~47mol%且Mn2O3含量为1mol%以上且低于7.5mol%,或Fe2O3含量为35mol%~45mol%且Mn2O3含量为7.5mol%~10mol%;

并且,同时实施用于形成所述非磁性层的煅烧、用于形成所述第2磁性层的煅烧以及用于形成所述第1磁性层的煅烧。

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