[发明专利]一种PIN结构紫外雪崩光电探测器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210314750.7 申请日: 2012-08-30
公开(公告)号: CN102800717A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 江灏;谭维;黄泽强 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 陈卫
地址: 510275 *** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 pin 结构 紫外 雪崩 光电 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于:包括衬底(1),在衬底(1)上生长有缓冲层(2);

在缓冲层(2)上生长有n型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(3),其中, 0≤x≤1,0≤y≤1;所述n型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(3)为n型层;

在n型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(3)上生长有非掺杂或低掺杂浓度的三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(4),其中, 0≤x≤1,0≤y≤1;非掺杂或低掺杂浓度的三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(4)作为i型层;

在非掺杂或低掺杂浓度的三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(4)上生长有p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5),其中,0≤x≤1,0≤y≤1;所述p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)为p型层;

在p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)与非掺杂或低掺杂浓度的三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(4)的侧面环绕有p型轻掺杂GaN保护环(6);

所述p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)上端面制作有凹形光信号入射窗口(9),p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)上制作有p型欧姆接触电极(7),所述n型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(3)上还制作有n型欧姆接触电极(8)。

2.根据权利要求1所述的PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于:所述n型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(3)的厚度为0.1 m~3m。

3.根据权利要求2所述的PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于:所述n型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(3)的掺杂浓度为3×1017cm-3~3×1019cm-3

4.根据权利要求1所述的PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于,所述非掺杂或低掺杂浓度的三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(4)为吸收光子并产生雪崩效应的有源区,其厚度为0.05m~2m。

5.根据权利要求1所述的PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于:所述p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)厚度为20 nm~500 nm。

6.根据权利要求5所述的PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于:所述p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)的掺杂浓度为1×1017cm-3~1×1019cm-3

7.根据权利要求1所述的PIN结构紫外雪崩光电探测器,其特征在于:所述p型轻掺杂GaN保护环(6)的厚度大于p型三族氮化物AlxInyGa1-x-yN层(5)的厚度,但p型轻掺杂GaN保护环(6)只深及i层而不到n型层。

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