[发明专利]一种投影物镜光学系统

权利要求书

1.一种用于光刻领域的投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，其特征在于，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧顺次包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、孔径光阑、第四透镜、第五透镜、第六透镜；所述第一透镜、第二透镜、第三透镜分别与第六透镜、第五透镜、第四透镜关于孔径光阑完全对称；

其中，第一透镜具有正光焦度，第二透镜具有负光焦度，第三透镜具有正光焦度；第二透镜与第三透镜构成第一透镜组；第一透镜、第二透镜与第三透镜之间的光焦度分配满足以下条件：G111∶G113= -0.73～-0.79，第一透镜与第一透镜组光焦度比值为：G111 /G123=3.72～3.91；其中，G111、G113分别为第一、第三透镜的光焦度；G123为第一透镜组的光焦度；第四透镜、第五透镜与第六透镜的光焦度分配也满足上述条件。

2.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其中，所述第一透镜与第三透镜之间的光焦度分配为G111∶G113=-0.76。

3.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其中，所述第一透镜与第一透镜组的光焦度比值为G111 /G123)= 3.78。

4.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其中，所述第一透镜与第六透镜的材料由PBM2Y构成，第二透镜与第五透镜的材料由PBL1Y构成，第三透镜与第四透镜的材料由BSM51Y构成。

5.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其中，所述第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜和第六透镜为全球面透镜或至少一片非球面透镜。

6.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其中，像方数值孔径NA≤0.1。

7.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其中，像方视场为44.5mm×44.5mm的方形视场。

8.一种使用如权利要求1-7之一所述的投影物镜光学系统的光刻机。