[发明专利]用于光刻曝光中的光强调节装置及光强调节方法有效

专利信息
申请号: 201210319549.8 申请日: 2012-09-03
公开(公告)号: CN103676483A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 罗闻;孙智超 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B26/08
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 光刻 曝光 中的 调节 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于光刻曝光中的光强调节装置,其特征在于,包括:

汞灯光源,位于灯室内,用于提供所述光刻装置的光源;

可动反射镜组,位于灯室出光口处,包括至少一个可动镜片,用于汇聚所述光源的散射光束;

能量传感器,用于测量所述基底表面的光功率;

控制器,用于信号检测、运算以及发送命令;

所述控制器与所述汞灯光源、所述可动反射镜组以及所述能量传感器连接,所述汞灯光源发出的散射光束经所述可动反射镜组后进入所述后继光路。

2.如权利要求1所述的光强调节装置,其特征在于,所述可动镜片可以分别沿光轴方向X和垂直于光轴方向Y作直线运动,并可以在XY平面内作旋转运动。

3.如权利要求1所述的光强调节装置,其特征在于,所述可动反射镜组包括三个可动镜片。

4.一种如权利要求1至3中任意一项所述的用于光刻曝光中的光强调节装置的使用方法,其特征在于,包括:

步骤a、设定汞灯电源控制器输出功率为一个恒定的功率值;

步骤b、调整可动反射镜片组与X轴的角度位置,并且在每一个位置测量基底面的光功率;调整角度的范围在0 o ~90o,且每个位置相比前一个位置的增量角度由用户设定;

步骤c、获得所述可动反射镜片组的反射镜片与X轴的角度位置与基底面光功率的对应关系表;

步骤d、根据所述对应关系表,调整所述反射镜片与X轴的角度位置为使基底表面的光功率为最大值的角度;  

步骤e、开始曝光流程。

5.一种如权利要求1至3中任意一项所述的用于光刻曝光中的光强调节装置的使用方法,其特征在于,包括:

步骤a、设定汞灯电源控制器输出功率为一个恒定的功率值;

步骤b、调整可动反射镜片组与X轴的角度位置,并测量每个位置的光功率, 调整角度的范围在0 o ~90o,且每个位置相比前一个位置的增量角度由用户设定;

步骤c、获得所述可动反射镜片组的反射镜片与X轴的角度位置与基底面光功率的对应关系表;

步骤d、根据所述对应关系表,调整所述反射镜片与X轴的角度位置为使基底表面的光功率为中间值的角度;   

步骤e、将步骤d中所述的光功率作为汞灯电源的输出功率,再次测量所述基底的光功率,实时调整所述反射镜片与X轴的角度位置,使基底表面的光功率在中间值附近小幅波动,实现基底表面恒光强;

步骤f、开始曝光流程。

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