[发明专利]利用惰性气体喷射研磨硼粉末以满足纯度要求

权利要求书

1.一种用于在避免杂质污染的情况下研磨硼(44，72)的加工系统(40)，所述加工系统(40)包括：

喷射研磨机(42)，其用于减小硼原料(44)的颗粒大小；

原料入口(54)，其用于朝向所述喷射研磨机(42)传送所述硼原料(44)；

至少一个入口(例如，46，60)，其用于将至少一种气体(例如，48，62)传送到所述喷射研磨机(42)中，所述气体和所述硼原料(44)在研磨减小硼颗粒大小期间在所述喷射研磨机(42)内混合；和

所述至少一种气体的源，其操作地连接至所述至少一个入口(例如，46，60)，其中，所述至少一种气体(例如，48，62)是避免在研磨减小硼颗粒大小期间转移杂质的气体。

2.根据权利要求1所述的加工系统(40)，其特征在于，所述至少一种气体(例如，48，62)是惰性气体。

3.根据权利要求2所述的加工系统(40)，其特征在于，所述至少一种气体(例如，48，62)是氮。

4.根据权利要求1所述的加工系统(40)，其特征在于，所述至少一种气体(例如，48，62)是稀有气体。

5.根据权利要求4所述的加工系统(40)，其特征在于，所述至少一种气体(例如，48，62)是氩。

6.根据权利要求1所述的加工系统(40)，其特征在于，所述至少一种气体(例如，48，62)是蒸气。

7.根据权利要求1所述的加工系统(40)，其特征在于，被研磨的硼粉末(72)中的杂质量不大于大约0.1重量百分比的可溶残余物。

8.根据权利要求1所述的加工系统(40)，其特征在于，用于将所述至少一种气体传送到所述喷射研磨机(42)中的所述至少一个入口包括供给气体入口(46)，其中，所述供给气体(48)使所述硼原料(44)移动。

9.根据权利要求1所述的加工系统(40)，其特征在于，用于将所述至少一种气体传送到所述喷射研磨机(42)的所述至少一个入口包括磨碎气体入口(60)。

10.一种在避免杂质污染的情况下研磨硼(44，72)的方法，所述方法包括：

提供喷射研磨机(42)，所述喷射研磨机用于减小硼原料(44)的颗粒大小；

设置原料入口(54)，所述原料入口用于朝向所述喷射研磨机(42)传送所述硼原料(44)；

设置至少一个入口(例如，46，60)，所述至少一个入口用于将至少一种气体(例如，48，62)传送到所述喷射研磨机(42)中；

在研磨减小硼颗粒大小期间使所述气体(例如，48，62)和所述硼原料(44)在所述喷射研磨机内混合；和

提供所述至少一种气体(例如，48，62)的源，所述至少一种气体的源操作地连接至所述至少一个入口(例如，46，60)，其中，所述至少一种气体是避免在研磨减小硼颗粒大小期间转移杂质的气体(例如，48，62)。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述至少一种气体(例如，46，60)是惰性气体。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述至少一种气体(例如，46，60)是氮。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述至少一种气体(例如，46，60)是稀有气体。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述至少一种气体(例如，46，60)是氩。

15.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述至少一种气体(例如，46，60)是蒸气。

16.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，被研磨的硼粉末(72)中的杂质量不大于大约0.1重量百分比的可溶残余物。

17.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，用于将所述至少一种气体传送到所述喷射研磨机(42)中的所述至少一个入口包括供给气体入口(46)，其中，所述供给气体(48)使所述硼原料(44)移动。

18.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，用于将所述至少一种气体传送到所述喷射研磨机中的所述至少一个入口包括磨碎气体入口(60)。