[发明专利]介质处理装置

权利要求书

1.一种介质处理装置，其特征在于，

具有：

第1路径，其用于输送第1介质；

第2路径，其用于输送第2介质；

公共路径，其从所述第1路径以及所述第2路径的合流点起延伸、且用于输送所述第1介质以及所述第2介质；

扫描仪，其读取通过所述公共路径的所述第1介质或者所述第2介质的图像；

喷墨头，其对通过所述第1路径的所述第1介质进行印刷；

喷嘴盖，其能够移动到覆盖所述喷墨头的喷嘴面来将该喷嘴面维持为保湿状态的加盖位置、以及远离所述喷嘴面的加盖解除位置；

挡板，其能够移动到对位于所述加盖解除位置的所述喷嘴盖的开口部进行封锁来将该喷嘴盖的内部维持为保湿状态的封锁位置、以及远离所述开口部的封锁解除位置；和

路径切换构件，其能够在所述合流点，对使所述第1路径与所述公共路径连通的第1位置、以及使所述第2路径与所述公共路径连通的第2位置进行切换，

所述路径切换构件与所述挡板的从所述封锁位置起向所述封锁解除位置的移动相联动，从所述第1位置切换至所述第2位置，并与所述挡板的从所述封锁解除位置起向所述封锁位置的移动相联动，从所述第2位置切换至所述第1位置。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，

所述喷嘴盖能够在从与所述喷墨头的所述喷嘴面隔着所述第1路径而对置的所述加盖解除位置起，横跨所述第1路径向着所述喷嘴面一侧前进，至覆盖该喷嘴面的所述加盖位置为止的路程间进行移动，

所述挡板能够沿着所述第1路径，在从对位于所述加盖解除位置的所述喷嘴盖的所述开口部进行封锁的所述封锁位置起至所述封锁解除位置为止的路程间进行移动，

所述路径切换构件与所述挡板在沿着所述第1路径的方向上相邻配置。

3.根据权利要求2所述的介质处理装置，其特征在于，

所述介质处理装置具有：

介质导向部，其与所述喷墨头隔着所述第1路径对置配置；和

介质导向开口部，其为了使所述喷嘴盖相对于所述喷墨头的所述喷嘴面进退而形成于所述介质导向部，

所述挡板在所述封锁位置处遮蔽所述介质导向开口部，并且该挡板的面对所述第1路径一侧的挡板表面作为在所述封锁位置处对所述第1介质进行导向的介质导向面发挥功能，

所述路径切换构件中的面对所述第1路径一侧的第1表面作为在所述第1位置处对所述挡板表面与所述公共路径上的位于该挡板表面同侧的公共路径导向面之间进行连接的介质导向面发挥功能，

所述路径切换构件中的面对所述第2路径一侧的第2表面作为在所述第2位置处对所述第2路径上的位于所述第2表面同侧的第2路径导向面与所述公共路径上的位于该第2路径导向面同侧的公共路径导向面之间进行连接的介质导向面发挥功能。

4.根据权利要求3所述的介质处理装置，其特征在于，

所述喷嘴盖能够在从相对于所述第1路径远离所述加盖解除位置的后退位置起，经由该加盖解除位置至所述加盖位置为止的路程间进行往返移动，

在所述喷嘴盖相对于位于所述封锁位置的所述挡板从所述后退位置起移动至所述加盖解除位置时，该喷嘴盖与所述挡板抵接，形成该喷嘴盖的所述开口部被封锁的状态，

在所述喷嘴盖位于所述加盖位置的状态下、以及在所述喷嘴盖从所述加盖位置起移动至所述后退位置的期间，所述挡板被保持在所述封锁解除位置，在所述喷嘴盖返回至所述后退位置时，所述挡板从所述封锁解除位置起移动至所述封锁位置，在所述挡板移动至所述封锁位置后，所述喷嘴盖从所述后退位置起前进至所述加盖解除位置来封锁该喷嘴盖的所述开口。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的介质处理装置，其特征在于，

所述路径切换构件能够绕着预定的旋转中心线旋转而在所述第1位置以及所述第2位置间切换，

所述介质处理装置具有：凸轮机构，其将所述挡板的从所述封锁位置起至所述封锁解除位置为止的路程间的直线往返运动变换成所述路径切换构件的从所述第1位置起至所述第2位置为止的路程间的旋转运动。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的介质处理装置，其特征在于，

所述介质处理装置具有：磁读取部，其读取在所述第1路径被输送的所述第1介质的磁信息，

所述第1路径是支票路径，

所述第2路径是卡路径。