[发明专利]封装基板的制法无效

专利信息
申请号: 201210322593.4 申请日: 2012-09-04
公开(公告)号: CN103632980A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 白裕呈;林俊贤;萧惟中;孙铭成;洪良易 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 封装 制法
【权利要求书】:

1.一种封装基板的制法,其包括:

提供一承载件,该承载件结合两承载结构,该两承载结构各具有相对的第一侧与第二侧,且该两承载结构以其第二侧相结合;

形成单一层线路层于该两承载结构的第一侧上;以及

分离该两承载结构,以形成两具有该承载结构的封装基板。

2.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,该两承载结构的第二侧以粘着层粘结。

3.根据权利要求2所述的封装基板的制法,其特征在于,该执法还包括移除该粘着层,以分离出该两封装基板。

4.根据权利要求2所述的封装基板的制法,其特征在于,该两承载结构的分离以沿该第二侧的粘着层内侧进行切割的方式,令该两承载结构分开,以分离出该两封装基板。

5.根据权利要求2所述的封装基板的制法,其特征在于,该粘着层设置于该两承载结构的第二侧边缘的非布线区。

6.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,该两承载结构的第二侧还具有支撑强化件。

7.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,该执法还包括形成表面处理层于该线路层上。

8.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,该承载结构还具有绝缘层、形成于该绝缘层上的介电层、形成于该介电层上的金属承载层、及形成于该金属承载层上的金属层,且令该金属层形成于该第一侧上。

9.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,各该第一侧上具有金属层,且形成该线路层的工艺包括:

形成阻层于该金属层上,且该阻层形成有多个开口以外露部分该金属层;

形成该线路层于该开口中的金属层上;以及

移除该阻层。

10.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,各该第一侧上具有金属层,以借蚀刻该金属层而形成该线路层。

11.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,各该承载结构的第一侧与第二侧分别具有第一与第二金属层,该两承载结构以其第二金属层相互结合。

12.根据权利要求11所述的封装基板的制法,其特征在于,该第一与第二金属层为铜箔。

13.根据权利要求11所述的封装基板的制法,其特征在于,该第二金属层以真空压合方式相互结合。

14.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,该承载结构的第一侧与第二侧分别具有第一与第二金属层,供该两承载结构以其第二金属层相互结合,且形成该线路层的工艺包括:

形成预备金属层于该第一金属层上;

形成阻层于该预备金属层上,且该阻层形成有多个开口以外露部分该预备金属层;

移除该开口中的预备金属层,以令剩余的该预备金属层作为该线路层;以及

移除该阻层。

15.根据权利要求14所述的封装基板的制法,其特征在于,该预备金属层以压合方式形成于该第一金属层上。

16.根据权利要求1所述的封装基板的制法,其特征在于,该执法还包括形成防焊层于该承载结构的第一侧上。

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