[发明专利]含镓的金属氧化物层的蚀刻溶液组合物

权利要求书

1.一种用于含镓的金属氧化物层的蚀刻溶液组合物，所述蚀刻溶液组合物包括：重量百分比为5%~20%的过硫酸盐、重量百分比为1%~15%的无机酸或无机酸的盐以及形成所述组合物的余量的水。

2.如权利要求1所述的组合物，其中，所述过硫酸盐为从包括过硫酸铵、过硫酸钠和过硫酸钾的组中选择的至少一种。

3.如权利要求1所述的组合物，其中，所述无机酸为从包括硝酸、硫酸、磷酸、亚磷酸和高氯酸的组中选择的至少一种。

4.如权利要求1所述的组合物，其中，所述无机酸或所述无机酸的盐为从包括硝酸、硫酸、高氯酸的组中选择的至少一种与从包括磷酸、磷酸盐、亚磷酸和亚磷酸盐的组中选择的至少一种的混合物。

5.如权利要求4所述的组合物，其中，以重量百分比为1%~14.9%的量包含从包括硝酸、硫酸和高氯酸的组中选择的至少一种，以及以重量百分比为0.1%~3%的量包含从包括磷酸、磷酸盐、亚磷酸和亚磷酸盐的组中选择的至少一种。

6.如权利要求4所述的组合物，其中，所述磷酸盐为磷酸铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢铵、磷酸钾、磷酸氢二钾、磷酸二氢钾、磷酸钠、磷酸氢二钠或磷酸二氢钠，所述亚磷酸为（1-羟基-1-膦酰基乙基）膦酸，所述亚磷酸盐为（1-羟基-1-膦酰基乙基）膦酸铵、（1-羟基-1-膦酰基乙基）膦酸钾或（1-羟基-1-膦酰基乙基）膦酸钠。

7.如权利要求1所述的组合物，还包括重量百分比为0.01%~2%的氟化合物。

8.如权利要求7所述的组合物，其中，所述氟化合物为从包括氟酸、氟化铵、氟化氢铵、氟硼酸铵、氟化钾、氟化氢钾、氟硼酸钾、氟化钠、氟化氢钠、氟化铝、氟硼酸、氟化锂和氟化钙的组中选择的至少一种。

9.如权利要求1所述的组合物，还包括重量百分比为0.1%~15%的有机酸、有机酸的盐或其混合物。

10.如权利要求9所述的组合物，其中，所述有机酸为从包括醋酸、亚氨基二乙酸、乙二胺四乙酸、丁酸、柠檬酸、异柠檬酸、甲酸、葡糖酸、乙醇酸、丙二酸、草酸、戊酸、磺基苯酸、琥珀酸、磺基丁二酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、苹果酸、酒石酸和丙烯酸的组中选择的至少一种。

11.如权利要求9所述的组合物，其中，所述盐为钾盐、钠盐或铵盐。

12.如权利要求1所述的组合物，其中，所述无机酸或所述无机酸的盐为至少一种无机酸与从包括硝酸盐、硫酸盐和高氯酸盐的组中选择的至少一种的混合物。

13.如权利要求12所述的组合物，其中，所包含的至少一种无机酸的量按重量百分比计为1%~14.9%，所包含的从包括硝酸盐、硫酸盐和高氯酸盐的组中选择的至少一种的量按重量百分比计为0.1%~10%。

14.如权利要求1所述的组合物，其中，所述含镓的金属氧化物层包括镓或氧化镓、氧化铟和氧化锌或其混合物。

15.如权利要求1至14中任一项所述的组合物，还包括按重量百分比计的量为0.3%~5%的环胺化合物。

16.如权利要求15所述的组合物，其中，所述蚀刻溶液组合物整体蚀刻所述含镓的金属氧化物层和铜金属层。

17.如权利要求15所述的组合物，其中，所述环胺化合物为从包括5-氨基四氮唑、甲基苯骈三氮唑、苯并三唑、甲基苯并三唑、咪唑类化合物、吲哚类化合物、嘌呤类化合物、吡唑类化合物、吡啶类化合物、嘧啶类化合物、吡咯类化合物、吡咯烷类化合物和吡咯啉类化合物的组中选择的至少一种。

18.如权利要求15所述的组合物，还包括按重量百分比计的量为0.01%~3%的络合剂。

19.一种制造薄膜晶体管的方法，该方法包括利用如权利要求1至14中任一项所述的蚀刻溶液组合物湿蚀刻含镓的金属氧化物层，以形成图案。

20.一种制造薄膜晶体管的方法，该方法包括利用如权利要求15所述的蚀刻溶液组合物整体蚀刻铜金属层和含镓的金属氧化物层，以形成图案。