[发明专利]光学级聚酯薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201210323337.7 | 申请日: | 2012-09-04 |
公开(公告)号: | CN102825885A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 刘勤学;刘守忠;朱益明;蒙钊;胡婧 | 申请(专利权)人: | 江苏裕兴薄膜科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B27/36 | 分类号: | B32B27/36;B32B33/00;B29C69/02;B29C55/12;B29B15/10;C09D133/00;C09D175/04;C09D167/00;C09D125/06;C09D125/16;C09D7/12 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 贾海芬 |
地址: | 213023 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 聚酯 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种光学级聚酯薄膜,其特征在于:包括仅具有聚对苯二甲酸乙二醇酯的聚酯基膜和涂覆在聚酯基膜两表面且厚度在0.05-0.3μm的底涂层,所述底涂层含有胶体二氧化硅和交联型聚苯乙烯类微球。
2.根据权利要求1所述的光学级聚酯薄膜,其特征在于:所述底涂层的厚度在0.1-0.2μm之间。
3.根据权利要求1所述的光学级聚酯薄膜,其特征在于:所述聚酯基膜的厚度在100-200μm之间。
4.根据权利要求1所述的光学级聚酯薄膜的制备方法,其特征在于:
⑴、按质量百分比,将0.02-0.1%的交联型聚苯乙烯类微球加入至0.08-0.6%的溶剂中充分溶解,再加入2.5-8.5%的有机高分子粘合剂以及0.35-1.2%的固化剂和0.03-0.15%的胶体二氧化硅,搅拌均匀后再加入余量的去离子水稀释,制得固含量在3%-10%的底涂层涂布液待用,其中,所述的胶体二氧化硅的粒径在50-110nm,交联型聚苯乙烯类微球的粒径在1-10μm;
⑵、将干燥后的聚酯切片送入挤出机内熔融,经熔体管、粗过滤器、精过滤器及模头挤出,并经铸片辊冷却制得厚片,铸片辊速度控制在10-18m/min,将制得的厚片送入75±15℃的远红外加热区以3-5的纵拉伸倍率进行纵向拉伸形成聚酯膜片,纵向拉伸时间小于0.5s,涂布机在线将底涂层涂布液均匀涂覆在聚酯膜片两表面,进入横拉伸干燥和预热,再在90℃±15℃的温度下以3-4横拉伸倍率下进行横向拉伸,横向拉伸时间控制在10s-80s,对横拉伸后的聚酯薄膜经热定型处理,冷却后收卷,制得聚酯基膜厚度在100-200μm、底涂层厚度在0.05-0.3μm的光学级聚酯薄膜。
5.根据权利要求4所述的光学级聚酯薄膜的制备方法,其特征在于:所述的交联型聚苯乙烯类微球为交联型聚苯乙烯微球、交联型聚甲基苯乙烯微球、交联型聚乙基苯乙烯微球或交联型聚丙基苯乙烯微球的其中一种或任意二种以上的混合物。
6.根据权利要求4所述的光学级聚酯薄膜的制备方法,其特征在于:所述的有机高分子粘合剂为聚丙烯酸酯树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂的其中一种或任意二种以上的混合物。
7.根据权利要求4所述的光学级聚酯薄膜的制备方法,其特征在于:所述的固化剂为三聚氰胺或噁唑啉。
8.根据权利要求4所述的光学级聚酯薄膜的制备方法,其特征在于:所述的胶体二氧化硅包括两种以上不同粒径的胶体二氧化硅。
9.根据权利要求4所述的光学级聚酯薄膜的制备方法,其特征在于:所述的溶剂为四氢呋喃、四氯化碳、三氯甲烷或二氯甲烷的其中一种。
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