[发明专利]聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法无效
申请号: | 201210323646.4 | 申请日: | 2012-09-04 |
公开(公告)号: | CN102827383A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 王敏;胡媛媛;李珏瑜 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C08J5/00 | 分类号: | C08J5/00;C08L83/04 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 唐银益 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚二甲基硅氧烷 表面 区域 选择性 纳米 结构 修饰 方法 | ||
1.一种聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法,其特征在于,在铝片表面涂覆指甲油,在特定区域电解形成纳米结构,制成区域选择性保护的阳极氧化铝模板,将聚二甲基硅氧烷浇注到阳极氧化铝模板上,加热固化、脱膜,从而实现在聚二甲基硅氧烷表面纳米结构的区域选择性修饰的方法。
2.根据权利要求1所述的聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法,其特征在于,通过在铝片表面涂覆指甲油,在特定区域电解,制得氧化铝模板的具体操作步骤如下:
1)、将铝片在乙醇和去离子水里各超声清洗5分钟,程序升温炉中500 ℃煅烧3小时,消除铝片内应力;
2)、在硫酸:磷酸:硝酸体积比为2:2:1的混酸溶液中,40 ℃保持20分钟,除去铝片表面油脂,用去离子水清洗干净;
3)、在硫酸:磷酸:水体积比为2:2:1的混合溶液中,电化学抛光15分钟,以碳棒为参比电极,电压15 V,保持电流0.20~0.25 A,保持温度25 ℃,取出用去离子水清洗干净;
4)、在铝片表面特定区域涂上指甲油,自然风干;
5)、在质量百分比浓度为6 %磷酸中,一次氧化1小时,电压为55 V,冰浴保持温度15 ℃以下;
6)、在铝片表面特定区域重复涂上指甲油,自然风干,防止电解后指甲油脱落;
7)、将一次氧化的铝片放入质量百分比浓度为6 %磷酸和1.8 %铬酸,按体积比1:1混合而成的溶液中,60 ℃浸泡1小时,除去一次氧化层;
8)、在铝片表面特定区域重复涂上指甲油,自然风干,防止浸泡后指甲油脱落;
9)、在质量百分比浓度为6 %磷酸中,二次氧化1小时,电压为55 V,冰浴保持温度15 ℃以下,制得表面涂有指甲油的氧化铝模板;
10)、将其放入丙酮溶液中浸泡30分钟,指甲油溶解后,得到含有区域选择性纳米结构的阳极氧化铝模板;
所述的将聚二甲基硅氧烷浇注到阳极氧化铝模板上,加热固化、脱膜,从而实现在聚二甲基硅氧烷表面纳米结构的区域选择性修饰的具体步骤如下:
a、将聚二甲基硅氧烷前驱体和固化剂按质量比10:1混合均匀;
b、真空干燥箱中抽真空30分钟,除去气泡;
c、将配好的聚二甲基硅氧烷高聚物浇注到阳极氧化铝模板上,75 ℃加热固化1小时;
d、将固化后的高聚物放入乙醇溶液中浸泡30分钟;
e、剥落氧化铝模板,得到表面区域选择性修饰纳米结构的聚二甲基硅氧烷。
3.根据权利要求2所述的聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法,其特征在于,所述的铝片纯度为99.999%,厚度为0.25mm,面积为16 mm2。
4.根据权利要求2所述的聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法,其特征在于,所述的酸都是浓酸,所述的水都是去离子水,所述的乙醇浓度为95%。
5.据权利要求2所述的聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法,其特征在于,本发明的实验环境是室内,一个大气压下。
6.据权利要求2所述的聚二甲基硅氧烷表面区域选择性纳米结构的修饰方法,其特征在于,所述的制备氧化铝模板的过程中,磷酸腐蚀性较强,铝片和导线连接处保持在电解液上面,用绝缘带缠绕保护。
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